特許
J-GLOBAL ID:201803018655579658
コア-シェル触媒の処理方法および処理システム
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
小林 博通
, 富岡 潔
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-527982
特許番号:特許第6295323号
出願日: 2013年07月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 粒子が移動するための通路を確立するようにハウジング内に配置された多孔質電極に、電位を確立するステップと、
前記多孔質電極を通してコア粒子を案内するステップと、
前記コア粒子が前記多孔質電極を通過するときに、前記コア粒子上に金属層を溶着するステップと、
を含み、
前記ハウジングは、チューブの形態を備え、
前記多孔質電極は、前記コア粒子が前記ハウジングを通して移動するときに、前記コア粒子が移動する方向に沿った長さを有し、
前記多孔質電極は、カーボンマトリックスを備えるとともに、チューブの形態を有した対向電極によって取り囲まれていることを特徴とするコア-シェル触媒を処理する方法。
IPC (8件):
B01J 37/34 ( 200 6.01)
, B01J 35/08 ( 200 6.01)
, B01J 37/04 ( 200 6.01)
, B01J 23/89 ( 200 6.01)
, B01J 23/44 ( 200 6.01)
, H01M 4/88 ( 200 6.01)
, H01M 4/86 ( 200 6.01)
, H01M 4/92 ( 200 6.01)
FI (8件):
B01J 37/34
, B01J 35/08 B
, B01J 37/04 102
, B01J 23/89 M
, B01J 23/44 M
, H01M 4/88 K
, H01M 4/86 M
, H01M 4/92
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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