特許
J-GLOBAL ID：201803018782205287

被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法

発明者：
河 戸 俊 二

河 戸 俊 二 について

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尾 崎 祐 樹

尾 崎 祐 樹 について

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佐 竹 昇

佐 竹 昇 について

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小 林 政 一

小 林 政 一 について

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遠 藤 弘 憲

遠 藤 弘 憲 について


出願人/特許権者：
アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ

アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ について


代理人 (6件)： 永井 浩之 ,  中村 行孝 ,  佐藤 泰和 ,  朝倉 悟 ,  前川 英明 ,  遠藤 逸子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-548257
公開番号（公開出願番号）：特表2018-517790
出願日： 2016年03月23日
公開日（公表日）： 2018年07月05日
要約：
【課題】ガスバリア性能に優れた被膜を形成することができる被膜形成用組成物と被膜形成方法の提供。【解決手段】露光によりポリシラザンと反応する特定のケイ素化合物と、ポリシラザンと、有機溶剤とを含んでなることを特徴とする被膜形成用組成物と、その組成物を基板に塗布し、露光することを含んでなる被膜形成方法。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1):
IPC (7件)：
C09D 183/00 ,  C09D 183/04 ,  C09D 183/05 ,  C09D 183/06 ,  C09D 183/08 ,  C09D 183/14 ,  C09D 183/16
FI (7件)：
C09D183/00 ,  C09D183/04 ,  C09D183/05 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  C09D183/14 ,  C09D183/16
Fターム (13件)：
4J038DL001 ,  4J038DL031 ,  4J038DL041 ,  4J038DL051 ,  4J038DL071 ,  4J038DL081 ,  4J038KA06 ,  4J038MA14 ,  4J038NA08 ,  4J038PA17 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09 ,  4J038PC08
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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