特許
J-GLOBAL ID:201503052612394094
被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
勝沼 宏仁
, 中村 行孝
, 前川 英明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-192148
公開番号(公開出願番号):特開2015-059144
出願日: 2013年09月17日
公開日(公表日): 2015年03月30日
要約:
【課題】ガスバリア性能に優れた被膜を形成することができる被膜形成用組成物と被膜形成方法の提供。【解決手段】水酸基またはカルボキシル基を含まないポリシロキサンと、ポリシラザンと、有機溶剤とを含んでなることを特徴とする被膜形成用組成物と、その組成物を基板に塗布し、露光することを含んでなる被膜形成方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1):
IPC (4件):
C09D 183/04
, C09D 183/14
, C09D 183/16
, C08J 7/04
FI (4件):
C09D183/04
, C09D183/14
, C09D183/16
, C08J7/04 P
Fターム (16件):
4F006AA35
, 4F006AB39
, 4F006BA05
, 4F006CA08
, 4F006DA04
, 4F006EA03
, 4J038DL031
, 4J038DL081
, 4J038DL171
, 4J038MA07
, 4J038MA09
, 4J038NA08
, 4J038PA17
, 4J038PA18
, 4J038PB08
, 4J038PB09
引用特許:
前のページに戻る