特許
J-GLOBAL ID：201803019079517486

電子ビーム描画装置

発明者：
成田 英輔

成田 英輔 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-216159
公開番号（公開出願番号）：特開2014-143393
特許番号：特許第6281234号
出願日： 2013年10月17日
公開日（公表日）： 2014年08月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 電子ビームの照射により試料表面から放出される反射電子或いは二次電子の試料側への再反射を防止するための反射防止機構を、試料室の上面あるいは側面に設けた電子ビーム描画装置において、 前記反射防止機構は、導体からなる板体表面が試料と対向する面に、試料が向き合うようにして試料室の上面に設置され、断面形状がV字の切込みからなる反射防止構造が複数連続して設けられており、 前記V字の切込みが板体の中心より外周にかけて同心円状に複数連続して形成され、且つ前記V字の切り込みの角度θが2×arctan(試料と反射防止機構の距離A/試料の最大寸法B)より小さい角度であり、 反射防止構造の表面が、原子番号13以下の元素を主構成元素とする材料に覆われていることを特徴とする電子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/305 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H01L 21/30 541 E ,  H01L 21/30 541 G ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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