特許

J-GLOBAL ID：201803019112619656

ホウ素含有化合物、組成物、及びホウ素含有膜の堆積方法

発明者： シンチエン レイ ,  キム ムソン
出願人/特許権者： バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  三橋 真二 ,  木村 健治 ,  胡田 尚則 ,  田中 直樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-551188
公開番号（公開出願番号）：特表2018-516233
出願日： 2016年03月29日
公開日（公表日）： 2018年06月21日
要約：

本明細書で説明されるのは、ホウ素含有膜を形成するためのホウ素含有前駆体化合物、並びにそれを含む組成物及び方法である。1つの態様において、膜は、本明細書で説明される以下の式I又はII:を有する少なくとも1つの前駆体から堆積される。

請求項（抜粋）：

式Iを有する化合物及び式IIを有する化合物からなる群より選択され、

IPC (4件)：

C07F 5/02 ,  C23C 16/38 ,  H01L 21/318 ,  H01L 21/314

FI (4件)：

C07F5/02 D ,  C23C16/38 ,  H01L21/318 B ,  H01L21/314 A

Fターム (63件)：

4H048AA01 ,  4H048AA03 ,  4H048AB78 ,  4H048AB84 ,  4H048VA30 ,  4H048VA32 ,  4H048VA75 ,  4H048VB10 ,  4H048VB40 ,  4H048VB80 ,  4K030AA06 ,  4K030AA07 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030AA20 ,  4K030AA24 ,  4K030BA02 ,  4K030BA10 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA19 ,  4K030BA20 ,  4K030BA22 ,  4K030BA29 ,  4K030BA35 ,  4K030BA38 ,  4K030BA40 ,  4K030BA41 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030FA01 ,  4K030FA10 ,  4K030HA01 ,  4K030JA06 ,  5F058BA09 ,  5F058BB01 ,  5F058BB04 ,  5F058BB05 ,  5F058BB06 ,  5F058BC02 ,  5F058BC03 ,  5F058BC08 ,  5F058BC09 ,  5F058BC20 ,  5F058BD04 ,  5F058BD05 ,  5F058BD10 ,  5F058BD12 ,  5F058BD18 ,  5F058BF07 ,  5F058BF24 ,  5F058BF27 ,  5F058BF29 ,  5F058BF30 ,  5F058BF37 ,  5F058BH01 ,  5F058BH16 ,  5F058BH17 ,  5F058BJ06 ,  5F058BJ10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 立方晶窒化ホウ素の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-062629   出願人：独立行政法人物質・材料研究機構, 国立大学法人九州大学
• (アリール)(アミノ)ボラン化合物およびそれらの調製プロセス
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-554697   出願人：ソントルナショナルドラルシェルシュションティフィーク, ユニベルシテドレ-ンヌ1
• ケイ素含有膜を調製するための方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-022459   出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド
• 基板上に膜を形成するための方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-551084   出願人：シクストロンアドヴァンスドマテリアルズインコーポレイテッド

引用文献：

審査官引用 (3件)

• Journal of the Chemical Society, Chemical Communications, 1993, No.8, p.684-685
• Inorganic Chemistry, 1982, Vol.21, No.6, p.2473-2476
• Main Group Metal Chemistry, 2000, Vol.23, No.12, p.735-760