特許
J-GLOBAL ID：201803019893669203

膜分離活性汚泥処理装置、膜分離活性汚泥処理方法及び原水供給装置

発明者：
木村 克輝

木村 克輝 について

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石田 進

石田 進 について

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張 亮

張 亮 について

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円谷 輝美

円谷 輝美 について

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三好 太郎

三好 太郎 について


出願人/特許権者：
国立大学法人北海道大学

国立大学法人北海道大学 について

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前澤工業株式会社

前澤工業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人谷川国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-254055
公開番号（公開出願番号）：特開2018-103129
出願日： 2016年12月27日
公開日（公表日）： 2018年07月05日
要約：
【課題】本発明は、仕切板挿入型の膜分離活性汚泥処理方法においても、脱窒を効率的に進行させ、窒素除去効率を向上させることが可能な膜分離活性汚泥装置および方法ならびに原水供給装置を提供することを目的とする。【解決手段】好気性処理および無酸素処理を行う単一の反応槽と、その反応槽の内部に配置された浸漬膜分離ユニットと、曝気手段とを有する仕切板挿入型の膜分離活性汚泥処理装置であって、反応槽内の液位が仕切板上端よりも高い状態と低い状態とに切り換えるための液位制御手段が設けられている膜分離活性汚泥処理装置において、反応槽内の液位が仕切板の上端よりも低く、仕切板外部の区画が無酸素状態であるときに、反応槽内の液位が仕切板の上端を越えない量の原水を前記仕切板外部の区画に供給する原水供給手段を設けたことを特徴とする膜分離活性汚泥処理装置、および膜分離活性汚泥処理方法、ならびに原水供給装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
好気性処理および無酸素処理を行う単一の反応槽と、その反応槽の内部に配置された浸漬膜分離ユニットと、曝気手段とを有する膜分離活性汚泥処理装置であって、反応槽は、底部が反応槽の底面から離間して設けられた仕切板によって複数個の区画に分割され、その複数個の区画のうちの少なくとも一つの区画を、浸漬膜分離ユニットおよび曝気手段が配置された好気区画とし、その他の区画内を、好気状態から無酸素状態に、また、無酸素状態から好気状態に切り換えるための区画とし、かつ、反応槽内の液位が仕切板上端よりも高い状態と低い状態とに切り換えるための液位制御手段が設けられている膜分離活性汚泥処理装置において、 前記反応槽内の液位が前記仕切板の上端よりも低く、前記その他の区画が無酸素状態であるときに、反応槽内の液位が仕切板の上端を越えない量の原水を反応槽内の前記その他の区画に供給する原水供給手段を設けたことを特徴とする膜分離活性汚泥処理装置。
IPC (3件)：
C02F 3/12 ,  C02F 3/34 ,  C02F 1/44
FI (8件)：
C02F3/12 S ,  C02F3/12 H ,  C02F3/12 B ,  C02F3/12 A ,  C02F3/34 101A ,  C02F3/34 101B ,  C02F3/34 101C ,  C02F1/44 F
Fターム (32件)：
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA41 ,  4D006HA93 ,  4D006KA01 ,  4D006KB22 ,  4D006KB23 ,  4D006KC02 ,  4D006KC14 ,  4D006KE21P ,  4D006KE21Q ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PC62 ,  4D028AA08 ,  4D028BC17 ,  4D028BD17 ,  4D028CA01 ,  4D028CA04 ,  4D028CC04 ,  4D028CC07 ,  4D028CD01 ,  4D028CD05 ,  4D040BB07 ,  4D040BB24 ,  4D040BB54 ,  4D040BB64 ,  4D040BB91
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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