特許
J-GLOBAL ID：201803020292186874

ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法

発明者：
美作 昌宏

美作 昌宏 について


出願人/特許権者：
株式会社エスケーエレクトロニクス

株式会社エスケーエレクトロニクス について


代理人 (1件)： 特許業務法人森脇特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-256535
特許番号：特許第6259509号
出願日： 2016年12月28日
要約：
【課題】パターンの微細化と多階調とを両立できるハーフトーンマスクを提供する。 【解決手段】透明基板上に、第1の半透過膜からなる第1の半透過領域、前記第1の半透過膜と第2の半透過膜との積層からなる第2の半透過領域及び透明領域、並びに第1の半透過領域と第2の半透過領域とが隣接する領域とを有し、 前記第1及び第2の半透過領域の露光光に対する透過率は、それぞれ10〜70[%]及び1〜8[%]であり、第2の半透過領域は露光光の位相を反転する。その結果、隣接する第1の半透過領域と第2の半透過領域との境界部分において、露光光の強度分布が急峻に変化し、露光されたフォトレジストパターンの断面形状を改善することができる。 【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
【請求項1】 透明基板上に、 第1の半透過膜からなる第1の半透過領域と、 前記第1の半透過膜と第2の半透過膜とが積層された第2の半透過領域と、 前記第1の半透過膜及び前記第2の半透過膜のいずれも存在しない透明領域と、 前記第1の半透過領域と前記第2の半透過領域とが隣接する領域とを有し、 前記第1の半透過領域は、露光光に対する透過率が10〜70[%]であり、 前記第2の半透過領域は、露光光に対する透過率が1〜8[%]であり、露光光の位相を反転する ことを特徴とするフォトマスクであって、 前記第1の半透過膜と前記第2の半透過膜との積層膜は、前記第1の半透過膜の位相シフト角をα[度]、前記第2の半透過膜の位相シフト角をβ[度]としたとき、180-α≦β≦180の関係を満たす ことを特徴とするフォトマスク。
IPC (6件)：
G03F 1/00 ( 201 2.01) ,  G03F 7/40 ( 200 6.01) ,  G03F 1/32 ( 201 2.01) ,  C23C 14/06 ( 200 6.01) ,  C23C 14/14 ( 200 6.01) ,  C23C 14/08 ( 200 6.01)
FI (8件)：
G03F 1/00 Z ,  G03F 7/40 511 ,  G03F 1/32 ,  C23C 14/06 N ,  C23C 14/14 D ,  C23C 14/06 A ,  C23C 14/08 E ,  C23C 14/08 J
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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