特許
J-GLOBAL ID：201503068471492597
表示装置製造用フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
特許業務法人 津国
, 津国 肇
, 柳橋 泰雄
, 伊藤 佐保子
, 小澤 圭子
, 柴田 明夫
, 杉本 将市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-179392
公開番号（公開出願番号）：特開2015-049282
出願日： 2013年08月30日
公開日（公表日）： 2015年03月16日
要約：
【課題】微細パターンの転写性を向上させた表示装置製造用フォトマスクを提供する。【解決手段】透明基板11上に、遮光部12a、位相シフト膜13a、エッチングマスク膜14aがこの順に積層され、それぞれウェットエッチングによりパターニングされ、前記位相シフト部は、前記位相シフト膜であるか、又は、前記位相シフト膜と前記エッチングマスク膜とがこの順に積層されてなり、前記透光部17は、前記透明基板表面が露出してなり、前記位相シフト膜は、クロムを含有する材料からなり、前記エッチングマスク膜は、前記位相シフト膜のエッチング液に対して、エッチング耐性をもつ材料からなり、前記位相シフト部と、前記透光部は、隣接部分を有し、かつ、前記位相シフト部と前記透光部は、前記フォトマスクの露光光の代表波長に対して、略180度の位相差をもつ。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
透明基板上に、位相シフト膜、エッチングマスク膜、遮光膜が、それぞれウェットエッチングによりパターニングされることにより、遮光部、位相シフト部、透光部を含む転写用パターンが形成されてなる表示装置製造用フォトマスクであって、
前記遮光部は、前記透明基板上に、前記位相シフト膜、前記エッチングマスク膜、前記遮光膜がこの順に積層されてなり、
前記位相シフト部は、前記透明基板上に前記位相シフト膜、又は、前記位相シフト膜と前記エッチングマスク膜とが形成されてなり、
前記透光部は、前記透明基板表面が露出してなり、
前記位相シフト膜は、クロムを含有する材料からなり、
前記エッチングマスク膜は、前記位相シフト膜のエッチング液に対して、エッチング耐性をもつ材料からなり、
前記位相シフト部と、前記透光部は、隣接部分を有し、かつ、前記位相シフト部と前記透光部は、前記フォトマスクの露光光の代表波長に対して、略180度の位相差をもつものである、
表示装置製造用フォトマスク。
IPC (4件)：
G03F 1/32
, G03F 1/00
, H01L 21/027
, G02F 1/134
G03F1/32
, G03F1/00 R
, H01L21/30 502P
, G02F1/1343
2H092GA14
, 2H092MA14
, 2H092MA16
, 2H092QA06
, 2H092QA09
, 2H095AC13
, 2H095BA12
, 2H095BB03
, 2H095BB25
, 2H095BB27
, 2H095BC04
, 2H095BC14
