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J-GLOBAL ID：201902223537199752   整理番号：19A2933039

水熱法によるさまざまな配向のエピタキシャル(K,Na)NbO₃膜の成長とその特性

Growth of epitaxial (K, Na)NbO₃ films with various orientations by hydrothermal method and their properties

著者 (11件)： ITO Yoshiharu (Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN) ,  TATEYAMA Akinori (Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN) ,  NAKAMURA Yoshiko (Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN) ,  SHIMIZU Takao (Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN) ,  KUROSAWA Minoru (Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN) ,  UCHIDA Hiroshi (Sophia Univ., Tokyo, JPN) ,  SHIRAISHI Takahisa (Tohoku Univ., Miyagi, JPN) ,  KIGUCHI Takanori (Tohoku Univ., Miyagi, JPN) ,  KONNO Toyohiko J. (Tohoku Univ., Miyagi, JPN) ,  ISHIKAWA Mutsuo (Toin Univ. Yokohama, Yokohama, JPN) ,  FUNAKUBO Hiroshi (Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58  号： SL  ページ： SLLB14.1-SLLB14.8  発行年： 2019年11月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *水熱合成 ,  *薄膜 ,  *カリウム化合物 ,  *ナトリウム化合物 ,  *ニオブ酸塩 ,  膜厚 ,  配向 ,  *強誘電性 ,  残留分極 ,  抗電場 ,  構造
準シソーラス用語： 水熱法 ,  *エピタキシャル膜 ,  *ニオブ酸カリウムナトリウム ,  飽和膜厚 ,  配向性 ,  *圧電性 ,  抗電界 ,  ドメイン構造

分類 (2件)： 圧電気,焦電気,エレクトレット  (BM05040M) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 水熱法 ,  配向 ,  エピタキシャル ,  Na ,  成長