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J-GLOBAL ID：201902232605072409   整理番号：19A2185320

フォトクロミック・ジアリールエテン表面における金属蒸着選択性 -現象・拡張性・応用-

Selective Metal-vapor Deposition on Photochromic Diarylethene Surfaces -Phenomenon, Extension and Applications-

著者 (1件)： 辻岡強 (大阪教育大学教育学部)
資料名： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
巻： 62  号： 7  ページ： 411-415(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： G0194B  ISSN： 2433-5835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： フォトクロミック・ジアリールエテン(DAE)膜上への選択的金属蒸着,その拡張と応用を紹介した。真空蒸着により金属蒸気は着色したDAE上に堆積したが,消色表面上には堆積しなかった。選択的析出現象の主要な原因は,低いガラス転移温度をもつ消色のDAE表面からの金属原子の脱離であり,そこでは金属膜形成の核形成が抑制される。この現象はDAE膜に限定されず,低いガラス転移温度(T_g)をもつ種々の有機膜が利用可能である。選択的金属蒸着はエレクトロニクスおよびフォトニクス分野における種々の金属パターン形成に適用できる。低T_g有機表面の新しい機能として金属蒸気集積蒸着を実証した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *オレフィン化合物 ,  *芳香族炭化水素 ,  金属薄膜 ,  *ガラス転移点 ,  脱着 ,  核形成 ,  パターン形成 ,  *フォトクロミズム ,  選択性 ,  *ジアリールエテン ,  *金属蒸着
準シソーラス用語： *ガラス転移温度

著者キーワード (10件)： フォトクロミズム ,  ジアリールエテン ,  真空蒸着 ,  選択堆積 ,  金属 ,  フォトクロミズム ,  ジアリールエテン ,  真空蒸着 ,  選択堆積 ,  金属

分類 (2件)： その他の光学的効果  (BM08040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (31件)：

• 1) M. Irie : Chem. Rev. 100, 1685 (2000).
• 2) T. Tsujioka and M. Irie : J. Photochem. Photobiol., C 11, 1 (2010).
• 3) R.C. Shallcross, P. Zacharias, A. Köhnen, P.O. Körner, E. Maibach and K. Meerholz : Adv. Mater. 25, 469 (2013).
• 4) M. Irie, T. Fukaminato, K. Matsuda and S. Kobatake : Chem. Rev. 114, 12174 (2014).
• 5) K. Uchida, R. Nishimura, E. Hatano, H. Mayama and S. Yokojima : Chem. Eur. J. 24, 8491 (2018).

タイトルに関連する用語 (7件)： フォトクロミック ,  ジアリールエテン ,  金属蒸着 ,  選択性 ,  現象 ,  拡張性 ,  応用