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J-GLOBAL ID：201902233250906448   整理番号：19A0071133

大気圧熱マイクロプラズマジェットを用いたヘキサメチルジシラザンとヘキサメチルジシロキサンから堆積した微細構造SiO_x薄膜【JST・京大機械翻訳】

Microstructured SiO_x thin films deposited from hexamethyldisilazane and hexamethyldisiloxane using atmospheric pressure thermal microplasma jet

著者 (5件)： Saito Tomohiro (Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.) ,  Mitsuya Rei (Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.) ,  Ito Yuta (Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.) ,  Higuchi Takeshi (Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.) ,  Aita Tadahiro (Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 669  ページ： 321-328  発行年： 2019年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクロ構造化酸化ケイ素(SiO_x)薄膜を,大気圧熱マイクロプラズマジェットを用いて,1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDSN)とヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)からガラスと金属基板上に蒸着した。2種類のストリング状生成物,ランダムに曲げられたストリング状生成物および線状のストリング状生成物を堆積し,それらは微細構造化膜を形成した。曲げられたストリング状の生成物は迷路状構造を形成し,線状のストリング状の生成物は大きな配列構造を形成するために平行に存在する。曲げと線形の両方のストリング状生成物の幅は,前駆体の種類にかかわらず1~3μmであったが,プラズマ照射条件に依存した。SiO_x微細構造の形成に及ぼす基板の種々の表面微細構造の影響を研究し,微細構造の形成機構を明らかにした。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  基板 ,  酸化ケイ素 ,  ガラス ,  *微細構造 ,  線形性 ,  前駆体 ,  プラズマ曝露 ,  金属基板 ,  *一酸化ケイ素 ,  *マイクロプラズマジェット
準シソーラス用語： 形成機構 ,  ミクロ構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 大気圧マイクロプラズマ ,  酸化ケイ素 ,  薄膜 ,  微細構造

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (2件)： ヘキサメチルジシロキサン ,  ヘキサメチルジシラザン

タイトルに関連する用語 (7件)： 大気圧 ,  マイクロプラズマジェット ,  ヘキサメチルジシラザン ,  ヘキサメチルジシロキサン ,  堆積 ,  微細構造 ,  薄膜