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J-GLOBAL ID：201902251423467478   整理番号：19A0415101

最新の放射光X線解析に基づくゴム材料の構造解析(I)散乱,分光,観察法 これからの視射角入射小角X線散乱

Future Angle of Grazing-Incidence Small Angle X-ray Scattering

著者 (1件)： 山本勝宏 (名古屋工大 大学院工学研究科)
資料名： 日本ゴム協会誌  (Journal of the Society of Rubber Science and Technology, Japan)
巻： 92  号： 2  ページ： 63-68  発行年： 2019年02月15日 
JST資料番号： G0157A  ISSN： 0029-022X  CODEN： NGOKAF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： プラスチック,エラストマ及びゴム膜のような軟質材料薄膜のナノスコピックモルフォロジーを,すれすれ入射小角X線散乱(GISAXS)により分析した。最近,表面,体積,および材料(元素)に敏感な手法を分析するための進歩したGISAXS技術が報告されている。共鳴(異常)GISAXSと,低いX線光子エネルギー(炭素のK端近傍の柔らかいX線と軟X線)のGISAXSは,これらの感度で複雑なナノモルフォロジーを調べることを可能にする。本報告では,GISAXSの原理を簡単に概説し,構造解析の新しい可能性について議論するために,進歩したGI-SAXS法について述べる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： シンクロトロン放射 ,  X線分析 ,  *ゴム ,  構造解析 ,  傾斜角 ,  *小角X線散乱 ,  軟質材料 ,  高分子薄膜 ,  プラスチック ,  モルフォロジー ,  ナノ構造 ,  軟X線 ,  *すれすれ入射 ,  柔軟性 ,  共鳴散乱 ,  ブロック共重合体
準シソーラス用語： *GISAXS ,  X線解析 ,  エラストマ ,  *すれすれ入射小角X線散乱 ,  放射光

分類 (2件)： ゴム  (YH07020M) ,  光学スペクトル及び光散乱一般  (BM08050S)

引用文献 (19件)：

• 1) Müller-Buschbaum, P. Analytical and Bioanalytical Chem. 2003, 376, 3.
• 2) Roth, S.V.; Burghammer, M.; Riekel, C.; Müller-Bushbaum, P.; Diethert, A.; Panagiotou, P.; Walter, H. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1935.
• 3) Lee, B.; Park, I.; Yoon, J.; Park, S.; Kim, J.; Kim, K. W.; Chang, T.; Ree M. Macromolecules 2005, 38, 4311.
• 4) Yoon, J.; Yang, S. Y.; Lee, B.; Joo, W.; Heo, K.; Kim, J. K.; Ree, M. J. Appl. Cryst. 2007, 40, 305.
• 5) Busch, P.; Rauscher, M.; Smilgies, D. M.; Posselt, D.; Papadakis C. M. J. Appl. Cryst. 2006, 39, 433.

タイトルに関連する用語 (8件)： 放射光 ,  X線解析 ,  ゴム材料 ,  構造解析 ,  散乱 ,  分光 ,  観察 ,  小角X線散乱