文献

J-GLOBAL ID：201902265675917241   整理番号：19A1553215

タンタル酸窒化物薄膜:光触媒効率と抗菌容量の評価【JST・京大機械翻訳】

Tantalum Oxynitride Thin Films: Assessment of the Photocatalytic Efficiency and Antimicrobial Capacity

著者 (9件)： Cristea Daniel (Materials Science and Engineering Faculty, Transilvania University, Eroilor 29, 500036 Brasov, Romania) ,  Cunha Luis (Physics Center, Minho University, Gualtar Campus, 4710-057 Braga, Portugal) ,  Gabor Camelia (Materials Science and Engineering Faculty, Transilvania University, Eroilor 29, 500036 Brasov, Romania) ,  Ghiuta Ioana (Materials Science and Engineering Faculty, Transilvania University, Eroilor 29, 500036 Brasov, Romania) ,  Croitoru Catalin (Materials Science and Engineering Faculty, Transilvania University, Eroilor 29, 500036 Brasov, Romania) ,  Marin Alexandru (Institute for Nuclear Research Pitesti, Str. Campului Nr. 1, POB 78, 115400 Mioveni, Arges, Romania) ,  Velicu Laura (Faculty of Physics, Alexandru Ioan Cuza University, 11 Carol I Blvd, 700506 Iasi, Romania) ,  Besleaga Alexandra (Faculty of Physics, Alexandru Ioan Cuza University, 11 Carol I Blvd, 700506 Iasi, Romania) ,  Vasile Bogdan (University Politehnica of Bucharest, National Research Center for Micro and Nanomaterials, Gh. Polizu Street No.1-7, 011061 Bucharest, Romania)
資料名： Nanomaterials (Web)  (Nanomaterials (Web))
巻： 9  号： 3  ページ： 476  発行年： 2019年 
JST資料番号： U7252A  ISSN： 2079-4991  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性マグネトロンスパッタリングにより,固定比率反応性ガス混合物(85%N2+15%O2)を用いて,タンタル酸窒化物薄膜を蒸着した。膜を作製するために,作動雰囲気中の混合物の分圧を変化させた。作製した膜の特性を3つの主要な観点と対応する相関から分析した:膜中の結合状態の研究,光分解の効率,およびSalmonellaに対する被覆の抗菌/抗生物質膜容量。X線光電子分光法の結果は,窒化物と酸窒化物の特徴がタンタル化学に比べて一定の挙動と一致することを示唆している。より高い反応性ガス混合物分圧で堆積した被覆は,著しく優れた抗生物質膜容量を示した。好ましい抗菌抵抗性は優勢な酸窒化物寄与の存在と相関した。UVまたはVIS照射下でのH2O2の添加の有無にかかわらず,メチルオレンジを含む水溶液の分解レベルを測定することにより,蒸着膜の光触媒能力を評価した。82%の高い分解効率が得られ,ある形態で得られたタンタル酸窒化物膜が有機汚染物質(染料)の光分解の有望な材料であることを示唆した。Copyright 2019 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  被覆 ,  反応性 ,  蒸着膜 ,  染料 ,  *薄膜 ,  分圧 ,  抗生物質 ,  *タンタル ,  *窒化物 ,  *光触媒 ,  光分解 ,  サルモネラ属 ,  スルホン酸 ,  芳香族アミン ,  アゾ化合物 ,  第三アミン
準シソーラス用語： *オキシナイトライド , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： タンタル酸窒化物 ,  マグネトロンスパッタリング ,  表面粗さ ,  光触媒活性 ,  抗生物膜容量

分類 (4件)： 医用素材  (GA05040H) ,  抗細菌薬の基礎研究  (GW17020S) ,  遺伝子操作  (EC02050B) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

物質索引 (1件)： メチルオレンジ

引用文献 (71件)：

• Banakh, O.; Csefalvay, C.; Steinmann, P.A.; Fenker, M.; Kappl, H. Evaluation of adhesion and tribological behaviour of tantalum oxynitride thin films deposited by reactive magnetron sputtering onto steel substrates. Surf. Coat. Technol. 2006, 200, 6500-6504.
• Banakh, O.; Steinmann, P.A.; Dumitrescu-Buforn, L. Optical and mechanical properties of tantalum oxynitride thin films deposited by reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films 2006, 513, 136-141.
• Kato, K.; Toyota, H.; Jin, Y.; Ono, T. Characterization of tantalum oxy-nitrides deposited by ECR sputtering. Vacuum 2008, 83, 592-595.
• Chung, C.K.; Chen, T.S.; Chang, N.W. Effect of reactive gases flow ratios on the microstructure and electrical resistivity of Ta-N-O thin films by reactive co-sputtering. Thin Solid Films 2011, 519, 5099-5102.
• Misra, E.; Wang, Y.; Theodore, N.D.; Alford, T.L. Evaluation of diffusion barrier and electrical properties of tantalum oxynitride thin films for silver metallization. Thin Solid Films 2004, 457, 338-345.

タイトルに関連する用語 (6件)： タンタル ,  酸窒化物 ,  薄膜 ,  触媒効率 ,  抗菌 ,  評価