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J-GLOBAL ID：201902274919139646   整理番号：19A1821592

低温合成堆積技術(K,Na)NbO₃基圧電体の水熱製膜

著者 (4件)： 白石貴久 (Tohoku Univ.) ,  木口賢紀 (Tohoku Univ.) ,  今野豊彦 (Tohoku Univ.) ,  舟窪浩 (Tokyo Inst. Technol.)
資料名： セラミックス  (Bulletin of the Ceramic Society of Japan)
巻： 54  号： 8  ページ： 540-543  発行年： 2019年08月01日 
JST資料番号： S0291A  ISSN： 0009-031X  CODEN： SERAA7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・セラミックスの低温合成法の一つである水熱合成を圧電材料である(K,Na)NbO₃膜の作製に適用した事例を紹介。
・水熱法とその特徴を簡単に解説した後,水熱法による成膜として,フレキシブル圧電体およびバイモルフ構造について説明。
・圧電配向体と組成拡張についても言及。

シソーラス用語： カリウム化合物 ,  ナトリウム化合物 ,  ニオブ酸塩 ,  *圧電材料 ,  *水熱合成 ,  *セラミック膜 ,  化学組成

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (15件)：

• P. Mane, J. Xie, K. K. Leang and K. Mossi, IEEE Trans. Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control, 58, 10 (2011).
• D. M. Newns, B. G. Elmegreen, X. H. Liu and G. J. Martyna, Adv. Mater., 24, 3672 (2012).
• Y. Saito, H. Takao, T. Tani, T. Nonoyama, K. Takatori, T. Homma, T. Nagaya and M. Nakamua, Nature, 432, 84 (2004).
• M. Matsubara, Y. Toshiaki, W. Sakamoto, K. Kikuta, T. Yogo and S. Hirano, J. Am. Ceram. Soc., 88, 11901196(2005).
• M. Matsubara, Y. Yamaguchi, K. Kikuta and S. Hirano, Jpn. J. Appl. Phys., 43, 71597163 (2004).

タイトルに関連する用語 (6件)： 低温合成 ,  堆積 ,  Na ,  圧電体 ,  水 ,  製膜