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J-GLOBAL ID:201902275773753589   整理番号:19A2265115

Wolter III型Advanced KBミラーを用いたX線自由電子レーザーsub-10nm集光システムの開発

著者 (12件):
資料名:
巻: 2019  号: 秋季(CD-ROM)  ページ: ROMBUNNO.J15  発行年: 2019年08月20日 
JST資料番号: Y0914A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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X線自由電子レーザーは超高ピーク強度を有しており,更なる高度利用化に向けた集光技術の発展が望まれる.非線形X線光学現象を開拓するためには,極限集光状態の安定性が重要となるが,従来のKBミラー光学系は必要アライメント精度が厳しく,安定性に乏しい.我々はWolter III型配置に基づき,特にKBミラーでは厳しい入射角誤差にロバストなAdvanced KBミラー集光光学系を開発した.(著者抄録)
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分類 (4件):
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その他の光学機器  ,  光学器械要素とその材料  ,  X線技術  ,  線源,照射装置 
引用文献 (9件):
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タイトルに関連する用語 (4件):
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