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J-GLOBAL ID：201902279902978712   整理番号：19A2157414

UVレーザ誘起劣化に対する高耐性を有する自己フラックス溶液からの大きくて高品質なCsLiB₆O₁₀結晶の成長

Growth of large and high quality CsLiB₆O₁₀ crystals from self-flux solutions for high resistance against UV laser-induced degradation

著者 (16件)： MURAI Ryota (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  FUKUHARA Taishi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ANDO Go (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TANAKA Yasunori (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAKAHASHI Yoshinori (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MATSUMOTO Kazuhisa (SOSHO CHOKO Inc., Osaka, JPN) ,  ADACHI Hiroaki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ADACHI Hiroaki (SOSHO CHOKO Inc., Osaka, JPN) ,  MARUYAMA Mihoko (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  IMANISHI Masayuki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  KATO Kosaku (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NAKAJIMA Makoto (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MORI Yusuke (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MORI Yusuke (SOSHO CHOKO Inc., Osaka, JPN) ,  YOSHIMURA Masashi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YOSHIMURA Masashi (SOSHO CHOKO Inc., Osaka, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 12  号： 7  ページ： 075501.1-075501.4  発行年： 2019年07月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CsLiB₆O₁₀(CLBO)の結晶成長を種々の自己フラックス溶液を用いて行った。散乱緑色光の強度を測定し,266nm照射下での劣化を評価した。Li不足組成から成長したCLBO結晶は,他の組成と比較して,レーザUV誘起劣化に対して最高の耐性を有した。さらに,緑色レーザ光の散乱は低かった。さらに,より大きなるつぼを用いて,Liの乏しいフラックス組成から亀裂や介在物を含まないより大きなCLBO結晶を成長させ,この方法は,大きくて高品質のCLBO結晶を成長させるのに非常に適していることを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 紫外レーザ ,  *レーザ照射 ,  *劣化 ,  耐性 ,  *フラックス法 ,  *セシウム化合物 ,  *リチウム化合物 ,  *ホウ化物 ,  *酸化物 ,  *結晶成長 ,  散乱光 ,  可視光 ,  リチウム ,  組成 ,  亀裂 ,  坩堝 ,  介在物
準シソーラス用語： UVレーザ ,  *品質劣化 ,  緑色光

分類 (1件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I)

引用文献 (26件)：

• S. Imai, K. Matsuki, N. Kikuiri, K. Takayama, O. Iwase, Y. Urata, T. Shinozaki, Y. Wada, and S. Wada, Proc. SPIE 7580, 75800H (2010).
• A. Tamhankar and R. Patel, J. Laser Appl. 23, 032001 (2011).
• Z. L. Li, P. L. Chu, H. Y. Zheng, G. C. Lim, L. Li, S. Marimuthu, R. Negarestani, M. Sheikh, and P. Mativenga, ICALEO 2008, 406 (2008).
• Z. L. Li, H. Y. Zheng, G. C. Lim, P. L. Chu, and L. Li, Composites: Part A 41, 1403 (2010).
• A. Riveiro, R. Soto, R. Comesana, M. Boutinguiza, J. del Val, F. Quintero, and F. Lusquinos, J. Pou: Appl. Surface Sci. 258, 9437 (2012).

タイトルに関連する用語 (9件)： UVレーザ ,  誘起 ,  耐性 ,  自己 ,  フラックス ,  溶液 ,  高品質 ,  結晶 ,  成長