特許
J-GLOBAL ID:201903002581999041
プラズマ処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩崎 重美
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-002310
公開番号(公開出願番号):特開2018-078328
特許番号:特許第6483296号
出願日: 2018年01月11日
公開日(公表日): 2018年05月17日
請求項(抜粋):
【請求項1】 真空容器内部の処理室内に配置された試料台上にウエハを載置して前記処理室内に形成したプラズマを用いて前記ウエハを処理するプラズマ処理方法であって、
前記試料台が、円筒形状を有し、その内部に中心から外周側へ向かう径方向および前記中心周りの周方向について分けられた複数の領域内に配置された複数のヒータを備え、
前記中心から同じ半径上の前記周方向の複数の領域内に配置された前記複数のヒータが直流電源に対して直列に配置されて回路を構成するものであって、
前記直列に配置された複数のヒータの各々に流れる電流の量を調節して前記複数のヒータ各々の発熱量を調節しつつ前記ウエハを処理するプラズマ処理方法。
IPC (3件):
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
, H01L 21/683 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 21/302 101 G
, H05H 1/46 C
, H01L 21/68 R
引用特許:
審査官引用 (5件)
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-008241
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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載置台構造及び処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-072873
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-114253
出願人:住友大阪セメント株式会社
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