特許
J-GLOBAL ID：201903002722895482
成膜装置及び成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
永井 浩之
, 中村 行孝
, 佐藤 泰和
, 朝倉 悟
, 堀田 幸裕
, 岡村 和郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-079377
公開番号（公開出願番号）：特開2019-183253
出願日： 2018年04月17日
公開日（公表日）： 2019年10月24日
要約：
【課題】膜と基材との密着性が向上されるように前処理を行う。【解決手段】成膜装置は、巻きかけられた基材を搬送する前処理ローラーと、前処理ローラーに対向するとともに前処理ローラーとの間で20kHz以上100kHz以下の周波数の交流電圧を印加される電極部材、及び電極部材の前処理ローラーと対向する側とは反対の側に設けられた磁場形成部材を有する対向電極と、を有し、交流電圧に基づいてプラズマを発生させるプラズマ前処理機構と、基材の搬送方向におけるプラズマ前処理機構よりも下流側に位置する成膜ローラーを有し、成膜ローラーに巻き掛けられた基材の表面に成膜する成膜機構と、を備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
巻きかけられた基材を搬送する前処理ローラーと、前記前処理ローラーに対向するとともに前記前処理ローラーとの間で20kHz以上100kHz以下の周波数の交流電圧を印加される電極部材、及び前記電極部材の前記前処理ローラーと対向する側とは反対の側に設けられた磁場形成部材を有する対向電極と、を有し、前記交流電圧に基づいてプラズマを発生させるプラズマ前処理機構と、
前記基材の搬送方向における前記プラズマ前処理機構よりも下流側に位置する成膜ローラーを有し、前記成膜ローラーに巻き掛けられた前記基材の表面に成膜する成膜機構と、を備える、成膜装置。
IPC (3件)：
C23C 14/02
, C23C 16/02
, H05H 1/46
C23C14/02 A
, C23C16/02
, H05H1/46 M
2G084AA05
, 2G084AA07
, 2G084AA12
, 2G084BB05
, 2G084CC02
, 2G084CC03
, 2G084CC14
, 2G084CC16
, 2G084CC21
, 2G084CC23
, 2G084CC33
, 2G084DD14
, 2G084DD25
, 2G084DD32
, 2G084FF07
, 2G084FF23
, 2G084FF27
, 2G084FF28
, 4K029AA25
, 4K029BA44
, 4K029CA02
, 4K029CA03
, 4K029CA05
, 4K029FA05
, 4K029GA02
, 4K029JA10
, 4K029KA03
, 4K030CA17
, 4K030DA02
, 4K030DA08
, 4K030FA01
, 4K030GA14
, 4K030KA30
, 4K030KA34
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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