特許
J-GLOBAL ID：201903003119878464
透過型電子顕微鏡グリッド及びその製造方法
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
TRY国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-010279
公開番号（公開出願番号）：特開2019-129154
出願日： 2019年01月24日
公開日（公表日）： 2019年08月01日
要約：
【課題】ナノパーティクルに対する解像度の高い透過型電子顕微鏡グリッドを提供する。【解決手段】貫通する窓105を有するサブストレート104の表面に設置された、複数のスルーホール103を有する多孔質窒化ケイ素基板101、及び、多孔質窒化ケイ素基板101の表面に設置され、多孔質窒化ケイ素基板101の複数のスルーホール103を覆って懸架されるグラフェン層102を有し、グラフェン層102は連続な一体式構造であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
多孔質窒化ケイ素基板及び前記多孔質窒化ケイ素基板の表面に設置されたグラフェン層を含み、前記多孔質窒化ケイ素基板は、複数のスルーホールを有し、前記グラフェン層は、前記多孔質窒化ケイ素基板の複数のスルーホールを覆い、複数のスルーホールの位置に懸架されることを特徴とする透過型電子顕微鏡グリッド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
5C001AA01
, 5C001AA08
, 5C001CC01
