特許
J-GLOBAL ID：201903003866869512

発光装置

発明者：
山下 利章

山下 利章 について


出願人/特許権者：
日亜化学工業株式会社

日亜化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 蟹田 昌之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-013149
公開番号（公開出願番号）：特開2019-134005
出願日： 2018年01月30日
公開日（公表日）： 2019年08月08日
要約：
【課題】透光性部材から取り出される光の色むらを低減することができ、また、発光効率を向上させることができる発光装置を提供する。【解決手段】レーザ光を出射する半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から離間して設けられ、蛍光体含有層を含み、前記レーザ光が入射する光入射面と、前記光入射面とは異なる面である光出射面とを有する透光性部材と、を備え、前記レーザ光は、前記光入射面におけるスポット形状が長手方向を有する形状であり、前記透光性部材は、前記光入射面の前記レーザ光が照射される領域に、前記スポット形状の前記長手方向に沿って設けられた断面逆V字状又は断面逆U字状の溝部を有する発光装置。【選択図】図2C
請求項（抜粋）：
レーザ光を出射する半導体レーザ素子と、 前記半導体レーザ素子から離間して設けられ、蛍光体含有層を含み、前記レーザ光が入射する光入射面と、前記光入射面とは異なる面である光出射面とを有する透光性部材と、を備え、 前記レーザ光は、前記光入射面におけるスポット形状が長手方向を有する形状であり、 前記透光性部材は、前記光入射面の前記レーザ光が照射される領域に、前記スポット形状の前記長手方向に沿って設けられた断面逆V字状又は断面逆U字状の溝部を有する発光装置。
IPC (1件)：
H01S 5/022
FI (1件)：
H01S5/022
Fターム (8件)：
5F173MC15 ,  5F173ME03 ,  5F173ME22 ,  5F173ME32 ,  5F173ME34 ,  5F173MF03 ,  5F173MF10 ,  5F173MF40
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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