パターン描画装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-192822
公開番号（公開出願番号）：特開2019-049731
出願日： 2018年10月11日
公開日（公表日）： 2019年03月28日
要約：

【課題】複数の描画ラインをつなげたマルチビーム型の描画方式であっても、基板の幅方向に継ぎ合わされるパターン同士の継ぎ誤差を低減する。【解決手段】基板P上にパターンを描画する露光装置EXであって、基板Pの搬送方向に搬送する回転ドラムDRと、基板Pに投射される描画ビームによりパターンを基板P上に描画する描画モジュールUW1〜UW5を複数有し、複数の描画モジュールUW1〜UW5の各々によって基板P上に描画されるパターン同士が幅方向に継ぎ合わされるように、幅方向に隣り合う描画ラインを、搬送方向に所定の間隔を空けて配置した描画装置11と、基板Pの幅方向に対する描画ラインの相対的な傾きを調整する回転機構24と、基板Pの搬送速度を検出する回転位置検出機構と、回転位置検出機構によって検出される搬送速度と、相対的な傾きの量とに応じて、描画モジュールUW1〜UW5の描画タイミングを制御する制御装置とを備える。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

所定幅の基板上にパターンを描画するパターン描画装置であって、前記基板を支持して、前記基板の幅方向と交差する搬送方向に所定速度で搬送する基板搬送機構と、前記基板に投射される描画ビームを前記基板の幅よりも狭い範囲で前記幅方向に走査して得られる描画ラインに沿って、所定のパターンを前記基板上に描画する描画モジュールを複数有し、前記複数の描画モジュールの各々によって前記基板上に描画されるパターン同士が、前記基板の幅方向に継ぎ合わされるように、互いに前記幅方向に隣り合う前記描画ラインを、前記搬送方向に所定の間隔を空けて配置した描画装置と、前記基板の搬送速度を検出する基板速度検出装置と、前記基板の幅方向に対する前記描画ラインの相対的な傾きを調整する傾き調整機構と、前記複数の描画モジュールのうち、前記基板の幅方向において互いに隣り合う一方の前記描画モジュールによる前記描画ラインの端部で描画されるパターンと、他方の前記描画モジュールによる前記描画ラインの端部で描画されるパターンとが、前記搬送方向又は前記幅方向おいて継ぎ合されるように、前記基板速度検出装置で検出される前記搬送速度と前記傾き調整機構で調整される前記相対的な傾きの量とに応じて、前記描画モジュールの各々の描画タイミングを制御する制御装置と、を備えるパターン描画装置。

IPC (2件)：

G03F 7/24 , G03F 7/20

FI (2件)：

G03F7/24 Z , G03F7/20 501

Fターム (27件)：

2H197AA09 , 2H197AA22 , 2H197AA29 , 2H197AA35 , 2H197AA41 , 2H197AB02 , 2H197BA09 , 2H197CA01 , 2H197CA07 , 2H197CA08 , 2H197CA11 , 2H197CD12 , 2H197CD25 , 2H197CD30 , 2H197CD32 , 2H197CD43 , 2H197CD45 , 2H197DB05 , 2H197DB17 , 2H197EA15 , 2H197EA17 , 2H197EA19 , 2H197EB23 , 2H197FB02 , 2H197FB03 , 2H197HA04 , 2H197HA10

引用特許：

審査官引用 (4件)

走査式描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-122113 出願人：旭光学工業株式会社
光走査装置及びその調整方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-332631 出願人：パナソニックコミュニケーションズ株式会社
光走査装置及び印刷装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-185717 出願人：ブラザー工業株式会社

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