特許
J-GLOBAL ID：201903004987268350
蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
特許業務法人 インテクト国際特許事務所
, 石橋 良規
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-015298
公開番号（公開出願番号）：特開2018-076602
特許番号：特許第6583446号
出願日： 2018年01月31日
公開日（公表日）： 2018年05月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 蒸着作製するパターンに対応する樹脂開口部が設けられた樹脂層の一方の面上に、金属開口部が設けられた金属層が積層されてなる蒸着マスクであって、
(i)前記樹脂層の一方の面において前記金属開口部と重なる位置に対応する領域、及び前記樹脂層の他方の面の何れか一方、又は双方の面上と、(ii)前記樹脂開口部、及び前記金属開口部の何れか一方、又は双方の内壁面に防汚層が設けられ、
前記樹脂層の一方の面において前記金属開口部と重なる位置に対応する領域、及び前記樹脂層の他方の面の何れか一方、又は双方の面上に設けられる前記防汚層の厚みが、100nm以上2μm以下であり、
前記防汚層が、離型性樹脂を含有している、
蒸着マスク。
IPC (3件)：
C23C 14/04 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
C23C 14/04 A
, H05B 33/14 A
, H05B 33/10
