特許
J-GLOBAL ID：201903008696875913
基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内野 美洋
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-129797
公開番号（公開出願番号）：特開2018-152622
特許番号：特許第6552687号
出願日： 2018年07月09日
公開日（公表日）： 2018年09月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を処理するための処理液を貯留する処理液貯留部と、
前記処理液貯留部に前記処理液を供給する処理液供給部と、
前記処理液を排出させる処理液排出部と、
前記処理液中の濃度を計測する濃度センサと、
前記濃度センサと接続され、前記処理液供給部と処理液排出部とを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記処理液を所定のタイミングで断続的に前記処理液排出部から排出させるとともに、前記処理液供給部から新たな前記処理液を供給し、前記処理液について所定のタイミングで前記処理液中の濃度を前記濃度センサで計測させ、前記濃度センサで前記処理液中の濃度を計測させる前記所定のタイミングは、前記処理液排出部から前記処理液を排出させる前記所定のタイミングよりも頻度を少なくして、前記処理液の一部だけを前記濃度センサに接液させて前記処理液中の濃度を計測させて前記処理液排出部から排出される前記処理液よりも前記濃度センサに接液させる前記処理液が少なくなるようにすることを特徴とする基板液処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
H01L 21/306 J
, H01L 21/306 B
, H01L 21/304 642 A
, H01L 21/304 648 G
, H01L 21/304 648 F
