特許

J-GLOBAL ID：201903010475195157

炭化シリコン・メンブレンを用いた流体の清浄化装置、システム、および方法

発明者： パウエル,アンソニー,エル. ,  バターズ,ブライアン,イー.
出願人/特許権者： 1934612 オンタリオ インク.
代理人 (2件)： 舛谷 威志 ,  中尾 洋之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-526249
公開番号（公開出願番号）：特表2019-503841
出願日： 2016年11月18日
公開日（公表日）： 2019年02月14日
要約：

本開示は、いくつかの実施形態で、セラミック部材を用いる流体(例えば、水)を除染する装置、システムおよび方法に関する。例えば、本開示は、いくつかの実施形態では、(a)複数の六角プリズム状のメンブレンを含むメンブレン・ハウジング、(b)汚染された流体を受けとり、汚染された流体を複数の六角プリズム状の膜の第1の端部に導くように構成された入口、および(c)複数の六角形形状のメンブレンの第2の端部から放出された透過物を受けるように構成された出口を含む、クロスフロー流体濾過アセンブリーに関する。本開示は、汚染媒体の入口チャンバと、透過液チャンバ内に配置された流体濾過アセンブリーと、濃縮物チャンバとによって画定される流体経路とを含むクロスフロー流体濾過モジュールにも関する。

請求項（抜粋）：

セラミック・メンブレンであって、 第1の表面、第2の表面、および本体を有するよう構成された基板と; バインダーと; 前記メンブレンの前記第1の表面の少なくとも一部分上の第1のメンブレン層と; 前記メンブレンの前記第2の表面の少なくとも一部分上の第2のメンブレン層と; 前記メンブレンの前記本体の少なくとも一部分上の第3のメンブレン層とを含み、 前記メンブレンは、約20psi以下のメンブレン間圧力で、メンブレン表面積1平方メートルあたり約2000リットル/時間の清浄な水フラックスを有するように構成された、セラミック・メンブレン。

IPC (13件)：

B01D 71/02 ,  B01D 61/18 ,  B01D 69/02 ,  B01D 69/04 ,  B01D 69/12 ,  B01D 63/06 ,  B01D 69/10 ,  B01D 24/00 ,  B01D 29/00 ,  C04B 38/00 ,  C04B 35/63 ,  C04B 41/85 ,  B01D 39/20

FI (13件)：

B01D71/02 ,  B01D61/18 ,  B01D69/02 ,  B01D69/04 ,  B01D69/12 ,  B01D63/06 ,  B01D69/10 ,  B01D29/00 Z ,  C04B38/00 303Z ,  C04B38/00 304Z ,  C04B35/63 ,  C04B41/85 C ,  B01D39/20 D

Fターム (65件)：

4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA27 ,  4D006HA77 ,  4D006JA08A ,  4D006JA15A ,  4D006JA19A ,  4D006JA25A ,  4D006JA27A ,  4D006KA13 ,  4D006KA33 ,  4D006KD06 ,  4D006KD30 ,  4D006KE03R ,  4D006KE06R ,  4D006MA02 ,  4D006MA09 ,  4D006MB13 ,  4D006MB16 ,  4D006MB19 ,  4D006MC03X ,  4D006NA46 ,  4D006NA63 ,  4D006PA01 ,  4D006PB12 ,  4D006PB15 ,  4D006PB59 ,  4D019AA03 ,  4D019BA05 ,  4D019BC06 ,  4D019CA01 ,  4D019CA03 ,  4D019CB02 ,  4D116AA16 ,  4D116AA18 ,  4D116BB01 ,  4D116BC37 ,  4D116BC38 ,  4D116BC45 ,  4D116BC48 ,  4D116BC75 ,  4D116DD06 ,  4D116EE02 ,  4D116EE11 ,  4D116FF09B ,  4D116GG03 ,  4D116GG21 ,  4D116HH23B ,  4D116KK04 ,  4D116QB03 ,  4D116QB05 ,  4D116QB17 ,  4D116QB22 ,  4D116QB26 ,  4D116QB32 ,  4D116QB35 ,  4D116QB37 ,  4D116QB48 ,  4D116QB49 ,  4D116VV07 ,  4D116ZZ01 ,  4G019FA12 ,  4G019FA13 ,  4G019GA04

引用特許：

審査官引用 (5件)

• セラミックフィルタ
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2011065933   出願人：日本碍子株式会社
• セラミックス構造体の製造方法、膜エレメントの製造方法、及び接合材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-062440   出願人：株式会社クボタ
• 接線ろ過膜のためのモノリシックセラミック支持体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-202003   出願人：テクセプ
• 流体濾過のための装置、システムおよび方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2015-516702   出願人：バターズブレーンイー.
• 触媒担持セラミック多孔質体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-159877   出願人：株式会社ノリタケカンパニーリミテド, 中部電力株式会社