特許
J-GLOBAL ID:201903017744065111
磁気メモリ素子
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
村山 靖彦
, 実広 信哉
, 阿部 達彦
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-519285
公開番号(公開出願番号):特表2018-537846
出願日: 2016年10月05日
公開日(公表日): 2018年12月20日
要約:
本発明は磁気メモリ素子に関し、該磁気メモリ素子は、導電層部分(32)と非磁性層部分(36)との間に磁性層部分(34)を含むコンタクト(31)であって、磁性層は層の平面に垂直な磁化を有する、コンタクトと、2つのアーム(44A、44B)によって延長された中央部分を含む、角度を有する導電性トラック(42)とを含み、コンタクトはトラック上に完全に配置され、それぞれのアームに関して、アームの中央軸に沿ってコンタクトに向かって流れる電流は、アームの一方(44A)については主にその左側であり他方のアーム(44B)については主にその右側であるアームに最も近いコンタクト部分に達する。
請求項(抜粋):
磁気メモリ素子であって、
導電層部分(32)と非磁性層部分(36)との間に磁性層部分(34)を含むコンタクト(31;51;61;71;81;91;101)であって、磁性層は層の平面に垂直な磁化を有する、コンタクトと、
2つのアーム(44A、44B)によって延長された中央部分を含む、角度を有する導電性トラック(42;52;62;72;82;92;102)とを含み、
コンタクトはトラック上に完全に配置され、
それぞれのアームに関して、アームの中央軸(45A、45B)に沿ってコンタクトに向かって流れる電流は、アームの一方(44A)については主にその左側であり他方のアーム(44B)については主にその右側であるアームに最も近いコンタクト部分に達する、磁気メモリ素子。
IPC (5件):
H01L 21/823
, H01L 27/105
, H01L 43/08
, H01L 29/82
, H01F 10/06
FI (4件):
H01L27/105 447
, H01L43/08 Z
, H01L29/82 Z
, H01F10/06
Fターム (29件):
4M119AA15
, 4M119AA19
, 4M119BB01
, 4M119CC02
, 4M119DD17
, 4M119DD24
, 4M119DD33
, 4M119EE02
, 4M119EE08
, 5E049AA01
, 5E049AA04
, 5F092AA01
, 5F092AB06
, 5F092AC11
, 5F092AD12
, 5F092AD23
, 5F092BB01
, 5F092BB21
, 5F092BB33
, 5F092BB34
, 5F092BB35
, 5F092BB36
, 5F092BB37
, 5F092BB42
, 5F092BB43
, 5F092BB71
, 5F092BC03
, 5F092BC18
, 5F092BC42
引用特許:
審査官引用 (3件)
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磁気メモリスロット
公報種別:公表公報
出願番号:特願2017-537349
出願人:セントレ・ナショナル・デ・ラ・レシェルシェ・サイエンティフィーク, コミサリアアエナジーアトミックエオックスエナジーズオルタネティヴ
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磁気記憶素子
公報種別:公表公報
出願番号:特願2013-521266
出願人:サントルナショナルドゥラルシェルシュシアンティフィク, コミサリアアレネルジィアトミークエオゼネルジイアルテアナティーフ, ユニヴェルシテジョセフフーリエ, インスティトゥートカタラデナノテクノロジア(アイシーエヌ), インスティトゥシオカタラーナデレセルカイエストゥディスアバンカツ(アイシーアールイーエー)
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半導体記憶装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-103761
出願人:株式会社東芝
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