特許
J-GLOBAL ID：201903018091879653
リソグラフィ装置及びリソグラフィ投影方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 江口 昭彦
, 内藤 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-551296
特許番号：特許第6535103号
出願日： 2016年03月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 リソグラフィ装置であって、
パターニングデバイスを支持するように構築された支持体であって、前記パターニングデバイスは、パターン付与された放射ビームを形成するために、その断面において放射ビームにパターンを付与することが可能である、支持体と、
前記パターニングデバイスに結合された透明層と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン付与された放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された、投影システムと、
を備え、前記リソグラフィ装置は、
前記リソグラフィ装置のスキャニング運動中に、前記透明層によって想定される変形プロファイルを表す量を決定するために構成された、プロファイリングシステムを、
更に備え、
前記プロファイリングシステムは、前記リソグラフィ装置の前記スキャニング運動中に前記量を感知するように構成されたセンサを備え、
前記センサは、前記透明層上に少なくとも1つのレーザビームを放射するように構成された少なくとも1つのレーザ源であって、前記少なくとも1つのレーザビームは、前記少なくとも1つのレーザビームのほとんどの光が反射されるように、前記透明層上でグレージング入射角を有する、少なくとも1つのレーザ源と、前記少なくとも1つのレーザビームの前記透明層での反射後に、前記少なくとも1つのレーザビームを検出するための検出器とを備え、
前記プロファイリングシステムは、前記リソグラフィ装置の前記スキャニング運動の運動プロファイルから、及び前記透明層の数学モデルから、前記量を決定するために構成され、前記数学モデルは有限要素モデルである、
リソグラフィ装置。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G01B 11/16 ( 200 6.01)
G03F 7/20 501
, G03F 7/20 521
, G01B 11/16 Z
