スパッタリングカソードおよびスパッタリング装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森幸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-091045
公開番号（公開出願番号）：特開2019-189932
出願日： 2018年05月10日
公開日（公表日）： 2019年10月31日
要約：

【課題】平板状の被成膜体を含む各種の被成膜体に十分に高い成膜速度かつ低衝撃で成膜を行うことができ、しかもスパッタリングターゲットの使用効率が高いスパッタリングカソードおよびこのスパッタリングカソードを用いたスパッタリング装置を提供する。【解決手段】スパッタリングカソードは、横断面形状が互いに対向する一対の長辺部を有する管状の形状を有し、エロージョン面が内側を向いているスパッタリングターゲット10を有し、スパッタリングターゲット10に沿って磁気回路が設けられており、一対の長辺部が円筒形状を有するロータリーターゲット11、12により構成されている。ロータリーターゲットは内部に磁気回路が設けられ、かつ冷却水が流されるように構成される。磁気回路は、ロータリーターゲットの中心軸に平行に設けられ、ロータリーターゲットの半径方向に垂直な長辺を有する長方形の横断面形状を有する。【選択図】図15

請求項（抜粋）：

横断面形状が互いに対向する一対の長辺部を有する管状または環状の形状を有し、エロージョン面が内側を向いているスパッタリングターゲットを有し、前記スパッタリングターゲットに沿って磁気回路が設けられているスパッタリングカソードにおいて、前記一対の長辺部がそれぞれロータリーターゲットにより構成されていることを特徴とするスパッタリングカソード。

IPC (1件)：

C23C 14/34

FI (2件)：

C23C14/34 C , C23C14/34 B

Fターム (10件)：

4K029AA24 , 4K029AA25 , 4K029CA05 , 4K029DC13 , 4K029DC16 , 4K029DC20 , 4K029DC40 , 4K029DC43 , 4K029DC45 , 4K029KA01

引用特許：

審査官引用 (7件)

特許第6151401号
連続成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-119698 出願人：株式会社神戸製鋼所
スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2014-070994 出願人：株式会社SCREENホールディングス

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