荷電粒子線治療装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 黒木義樹 , 柳康樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-065175
公開番号（公開出願番号）：特開2019-170869
出願日： 2018年03月29日
公開日（公表日）： 2019年10月10日
要約：

【課題】荷電粒子線の患部に対する照射精度を向上できる荷電粒子線治療装置を提供する。【解決手段】制御部7は、平面方向における腫瘍14の位置の変動に追従するように、平面方向における荷電粒子線Bの照射位置を調整する。これにより、荷電粒子線Bの照射位置は、平面方向における腫瘍14の位置の変動に良好に追従することができる。一方、深さ方向における荷電粒子線Bの照射位置の調整は、荷電粒子線Bのエネルギーを変更する必要があるため、時間を要する。従って、制御部7は、深さ方向における腫瘍14の位置が予め定めた範囲外になった場合は、荷電粒子線Bの照射を中断し、腫瘍14の位置が予め定めた範囲内に戻ったら荷電粒子線Bの照射を再開する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

患者に向けて荷電粒子線を照射する照射部と、前記患者の患部の位置を検出する患部位置検出部と、前記患部位置検出部で検出した前記患部の位置に基づいて、前記照射部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記荷電粒子線の照射軸と直交する平面方向における前記患部の位置の変動に追従するように、前記平面方向における前記荷電粒子線の照射位置を調整し、前記照射軸に沿った深さ方向における前記患部の位置が予め定めた範囲外になった場合は、前記荷電粒子線の照射を中断し、前記患部の位置が前記予め定めた範囲内に戻ったら前記荷電粒子線の照射を再開する、荷電粒子線治療装置。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (2件)：

A61N5/10 M , A61N5/10 H

Fターム (11件)：

4C082AA01 , 4C082AC04 , 4C082AE03 , 4C082AJ05 , 4C082AJ08 , 4C082AN04 , 4C082AN05 , 4C082AP07 , 4C082AP08 , 4C082AR02 , 4C082AR07

引用特許：

審査官引用 (6件)

特許第5508553号
照射中に線量付与を制御する方法及び装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2012-540330 出願人：ジーエスアイヘルムホルツツェントゥルムフュアシュヴェリオーネンフォルシュングゲーエムベーハー
放射線治療システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2014-245662 出願人：株式会社日立製作所, 国立大学法人北海道大学

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