特許
J-GLOBAL ID：201903021288488169

システム及び処理条件の決定方法

発明者：
中田 百科

中田 百科 について

, 
大森 健史

大森 健史 について

, 
臼井 建人

臼井 建人 について

, 
栗原 優

栗原 優 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 特許業務法人藤央特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-107419
公開番号（公開出願番号）：特開2019-212001
出願日： 2018年06月05日
公開日（公表日）： 2019年12月12日
要約：
【課題】状態を直接取得できない状況において、半導体製造プロセスの処理フローを最適化するための強化学習を実現する。【解決手段】対象を制御するための複数の処理を含む処理フローを決定するシステムであって、複数の処理の各々の処理条件を決定するための学習処理を実行する学習部を有し、学習部は、処理フローに基づいて対象を制御する装置から、所定の処理条件の下で、処理が実行された対象の状態と相関がある物理量を取得し、物理量に基づいて、対象の状態に対応する擬状態を算出し、価値関数を用いた学習処理を実行することによって、目的とする対象の状態を実現するための複数の処理の各々の処理条件を決定する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
対象を制御するための複数の処理を含む処理フローを決定するシステムであって、 演算装置、前記演算装置に接続される記憶装置、及び前記演算装置に接続されるインタフェースを有する少なくとも一つの計算機を備え、 前記複数の処理は予め設定された処理条件に基づいて実行され、 前記少なくとも一つの計算機は、 前記複数の処理の各々の前記処理条件を決定するための学習処理を実行する学習部を有し、 前記学習部は、 前記処理フローに基づいて対象を制御する装置から、所定の処理条件の下で、前記処理フローに含まれる一つの処理が実行された対象の状態と相関がある物理量を取得し、前記物理量に基づいて、強化学習における前記対象の状態に対応する擬状態を算出し、 任意の擬状態において選択された前記処理条件の評価を示す値を出力する価値関数を用いて、目的とする前記対象の状態を実現するための前記複数の処理の各々の処理条件を決定することを特徴とするシステム。
IPC (2件)：
G06N 20/00 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G06N99/00 150 ,  H01L21/66 J
Fターム (9件)：
4M106AA01 ,  4M106CA38 ,  4M106DB04 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ27 ,  4M106DJ32 ,  4M106DJ38
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM