文献

J-GLOBAL ID：202002210519190939   整理番号：20A1949290

分子ビームエピタクシー(MBE)によりZnリッチ状態で成長させた窒素アクセプタCoドープ(Zn,Fe)Te薄膜の構造と磁気特性【JST・京大機械翻訳】

Structural and Magnetic Properties of Nitrogen Acceptor Co-doped (Zn,Fe)Te Thin Films Grown in Zn-Rich Condition by Molecular Beam Epitaxy (MBE)

著者 (5件)： Saha Indrajit (Institute of Materials Science, University of Tsukuba, Tsukuba, Japan) ,  Tomohiro Yuta (Institute of Materials Science, University of Tsukuba, Tsukuba, Japan) ,  Kanazawa Ken (Institute of Materials Science, University of Tsukuba, Tsukuba, Japan) ,  Nitani Hiroaki (High Energy Accelerator Research Organization (KEK), Tsukuba, Japan) ,  Kuroda Shinji (Institute of Materials Science, University of Tsukuba, Tsukuba, Japan)
資料名： Journal of Electronic Materials  (Journal of Electronic Materials)
巻： 49  号： 10  ページ： 5739-5749  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0277B  ISSN： 0361-5235  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： [N]=1.8×1018~5.1×1019cm-3の範囲で変化する,1.4%およびN濃度に固定したFe組成を有するZnリッチ条件下で成長した(Zn,Fe)Te:N薄膜の構造および磁気特性を調べた。x線回折(XRD)による構造解析は,[N]=5.1×1019cm-3だけのNドープ膜中のFe-N化合物からのいくつかの付加的外因性回折ピークを検出する。従って,X線吸収微細構造(XAFS)分析は,高N濃度,[N]≧1.8×1019cm-3のNドープ膜の置換位置からのFe原子のシフトを明らかにし,一方,中間N濃度[N]≦4.3×1018cm-3のNドープ膜は,Fe2+から逸脱した原子価状態の置換Fe原子を有する純希釈相から成る。SQUIDを用いた磁化測定は磁気特性の劇的な変化を確認した。磁場に対する磁化の線形依存性は,Nドープ膜に対するヒステリシス磁化曲線を有する室温強磁性挙動にNドーピングのない膜におけるvan Vleck型常磁性の典型であった。[N]≦4.3×1018cm-3のNドープ膜の観察された弱い室温強磁性挙動はFe2+からFe2+/3+混合状態への置換Fe原子価状態の偏差を反映している。一方,[N]≧1.8×1019cm-3のNドープ膜により示される堅牢な室温強磁性挙動は,Fe2+/3+または他の原子価状態にあるFe-N化合物の沈殿物に由来する可能性がある。Copyright The Minerals, Metals & Materials Society 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  *アクセプタ ,  磁場 ,  常磁性 ,  *薄膜 ,  *鉄 ,  希釈 ,  *ドーピング ,  SQUID ,  *MBE成長 ,  ロバスト性 ,  磁化曲線 ,  室温強磁性 ,  原子価状態

著者キーワード (4件)： 分子ビームエピタクシー ,  テルル化物 ,  磁性材料 ,  室温強磁性

分類 (2件)： 強磁性共鳴,反強磁性共鳴,フェリ磁性共鳴  (BM07030P) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (12件)： 分子ビームエピタクシー ,  MBE ,  Zn ,  成長 ,  窒素 ,  アクセプタ ,  CO ,  ドープ ,  Fe ,  Te ,  薄膜 ,  磁気特性