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J-GLOBAL ID:202002213989164871   整理番号:20A2610678

マグネトロンスパッタ法を用いて作製したBCN膜特性への水素の効果

Hydrogen effects on the properties of BCN films deposited by magnetron sputtering
著者 (6件):
資料名:
巻: 120  号: 217(CPM2020 11-21)  ページ: 23-26 (WEB ONLY)  発行年: 2020年10月22日 
JST資料番号: U2030A  ISSN: 2432-6380  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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RFマグネトロンスパッタ法によりアモルファスBCN薄膜およびH2を導入して水素化アモルファスBCN(BCN:H)薄膜を作製し,水素がBCN膜特性に及ぼす影響を調べた。膜の光学バンドギャップ(Eg)および比抵抗はBCN膜に比べてBCN:H膜の方が大きくなることがわかった。また,水素流量比の増加に伴い,BCNBCN:H膜のEgおよび比抵抗は増加した。この原因として,水素導入により膜中のsp2C=C結合成分が減少したことが考えられる。また,同様の光学バンドギャップに対してBCN:H膜の方が高い比抵抗を示すことがわかった。このことから,水素導入により膜中の欠陥密度が減少したことが示唆される。(著者抄録)
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分類 (2件):
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薄膜成長技術・装置  ,  その他の無機化合物の薄膜 
引用文献 (8件):
タイトルに関連する用語 (4件):
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