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J-GLOBAL ID:202002233621803899   整理番号:20A1235561

フォトダイオード特性化により研究した原子拡散接合InGaAs/a-Ge/InGaAs構造を通る少数電子輸送

Minority-electron transport through atomic-diffusion-bonded InGaAs/a-Ge/InGaAs structure studied by photodiode characterization
著者 (7件):
資料名:
巻: 59  号:ページ: 016501 (5pp)  発行年: 2020年01月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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原子拡散接合技術を用いて作製したウエハ結合InGaAs/a-Ge/InGaAs構造を通る少数電子輸送を実験的に調べた。少数電子の輸送特性を,単一移動キャリアフォトダイオード(UTC-PD)構造で調べた。C-V特性とDCおよびO/E応答を従来のUTC-PDのそれらと比較し,結合領域がn型半導体として挙動し,バイアス電圧をPDに印加したとき,接合界面の近傍に電場が集中することを明らかにした。O/E応答から,結合領域を通る少数電子輸送は,比較的高いバイアス条件下で,ウエハ結合のない従来のPDにおけるものと類似していることが分かった。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
分類
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光導電素子 

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