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J-GLOBAL ID：202002244574800845   整理番号：20A0258638

ヒストン修飾解析の最前線

著者 (2件)： 半田哲也 (東京工大 科学技術創成研究院 細胞制御工学研究セ) ,  木村宏 (東京工大 科学技術創成研究院 細胞制御工学研究セ)
資料名： 遺伝子医学  (Gene & Medicine)
巻： 10  号： 1  ページ： 124-129  発行年： 2020年01月01日 
JST資料番号： L3408A  ISSN： 1343-0971  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・遺伝子発現制御に関わるヒストン収縮および,少数細胞エピゲノ...

シソーラス用語： *化学修飾 ,...
準シソーラス用語： 生細胞イメージング

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分類 (1件)： 遺伝学研究法  (EC01020N)

引用文献 (19件)：

• Luger K, Mader AW, et al : Nature 389, 251-260, 1997.
• Kouzarides T : Cell 128, 693-705, 2007.
• Kimura H : J Hum Genet 58, 439-445, 2013.
• Gilfillan GD, et al : BMC Genomics 13, 645, 2012.
• Li L, Clevers H : Science 327, 542-545, 2010.

タイトルに関連する用語 (2件)： ヒストン修飾 ,  解析