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J-GLOBAL ID：202002273645085908   整理番号：20A1020884

完全EUVマスクの発見:多層の役割【JST・京大機械翻訳】

Pathfinding the perfect EUV mask: the role of the multilayer

著者 (6件)： Mesilhy H. (Fraunhofer-Institut fuer Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (Germany)) ,  Evanschitzky P. (Fraunhofer-Institut fuer Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (Germany)) ,  Bottiglieri G. (ASML Netherlands B.V. (Netherlands)) ,  van Setten E. (ASML Netherlands B.V. (Netherlands)) ,  Fliervoet T. (ASML Netherlands B.V. (Netherlands)) ,  Erdmann A. (Fraunhofer-Institut fuer Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (Germany))
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 11323  ページ： 1132316-16  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 3Dマスク効果の軽減は,高NA(0.55)EUVリソグラフィーをその限界に押すための必要条件である。EUVマスクの吸収体と反射多層部分の両方が3Dマスク効果に寄与した。本論文は,多層の研究と最適化に焦点を合わせた。イメージング性能に及ぼす異なる多層パラメータの影響を研究し,最適化結果を説明するために用いた。多層最適化は,反射率データだけでなく,性能関数における画像計量を含むことにより,より良いリソグラフィー性能をもたらす。多層の異なる幾何学的表現を最適化し,それらの性能を比較した。結果は,反射率最適化から得られた参照と比較して,改良による異なるリソグラフィー計量間のトレードオフを示した。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *最適化 ,  反射率 ,  マスキング ,  画像処理 ,  リソグラフィー ,  三次元 ,  必要条件 ,  多層 ,  吸収体
準シソーラス用語： EUVリソグラフィー ,  *EUVマスク , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： EUVマスク ,  発見 ,  多層 ,  役割