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J-GLOBAL ID：202002278729817070   整理番号：20A1940184

中程度の圧力下で生成されたマイクロ波励起プラズマジェット中の窒素原子密度の測定

Measurements of nitrogen atom density in a microwave-excited plasma jet produced under moderate pressures

著者 (19件)： Kim Jaeho (Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, Japan) ,  Kim Jaeho (GaN Advanced Device Open Innovation Laboratory, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Nagoya, Aichi, Japan) ,  Takeda Keigo (Center for Low-temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Nagoya, Aichi, Japan) ,  Takeda Keigo (Faculty of Science and Technology, Meijo University, Nagoya, Aichi, Japan) ,  Itagaki Hirotomo (Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, Japan) ,  Itagaki Hirotomo (Advanced Manufacturing Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, 305-8564, Japan) ,  Wang Xue-lun (Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, Japan) ,  Wang Xue-lun (GaN Advanced Device Open Innovation Laboratory, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Nagoya, Aichi, Japan) ,  Hirose Shingo (Advanced Manufacturing Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, 305-8564, Japan) ,  Ogiso Hisato (Advanced Manufacturing Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, 305-8564, Japan) ,  Shimizu Tetsuji (Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, Japan) ,  Shimizu Tetsuji (GaN Advanced Device Open Innovation Laboratory, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Nagoya, Aichi, Japan) ,  Kumagai Naoto (Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, Japan) ,  Kumagai Naoto (GaN Advanced Device Open Innovation Laboratory, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Nagoya, Aichi, Japan) ,  Tsutsumi Takayoshi (Center for Low-temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Nagoya, Aichi, Japan) ,  Kondo Hiroki (Center for Low-temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Nagoya, Aichi, Japan) ,  Hori Masaru (Center for Low-temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Nagoya, Aichi, Japan) ,  Sakakita Hajime (Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, Japan) ,  Sakakita Hajime (GaN Advanced Device Open Innovation Laboratory, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Nagoya, Aichi, Japan)
資料名： IEEJ Transactions on Electrical and Electronic Engineering  (IEEJ Transactions on Electrical and Electronic Engineering)
巻： 15  号： 9  ページ： 1281-1287  発行年： 2020年09月 
JST資料番号： W1854A  ISSN： 1931-4973  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクロストリップ線に基づくマイクロ波励起プラズマ源を用いて,1から10kPaの範囲の中程度の圧力で窒素プラズマジェットを発生させた。プラズマジェットによって生成した窒素(N)原子の密度を真空紫外吸収分光法で測定した。結果は,プラズマジェットが1.5kPaで少なくとも4.5×10¹⁴cm^-3の高密度のN原子を提供できることを示した。N原子密度は,ガス流量と基板配置の変化によって大きく変化した。このプラズマ源は,様々な応用における高度なNラジカル源として高性能を提供することが期待される。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *プラズマ ,  *窒素 ,  マイクロ波 ,  *密度 ,  原子 ,  マイクロストリップ線路 ,  プラズマジェット ,  吸光分光分析 ,  流量 ,  配置 ,  プラズマ源 ,  ラジカル ,  プラズマ生成 ,  *プラズマ診断
準シソーラス用語： 窒素プラズマ ,  *マイクロ波プラズマ ,  *窒素原子密度 ,  マイクロストリップ線 ,  真空紫外吸収分光法 ,  ガス流量 ,  基板配置 ,  窒素ラジカル源 ,  活性窒素種 ,  ラジカル生成

著者キーワード (5件)： 窒素プラズマ ,  窒素ラジカル源 ,  マイクロ波励起プラズマ ,  中圧プラズマ ,  窒素原子密度

分類 (1件)： プラズマ診断  (BJ02090L)

タイトルに関連する用語 (5件)： マイクロ波 ,  励起 ,  プラズマジェット ,  窒素 ,  原子密度