Cho H K について
Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany について
Kang J H について
Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany について
Sulmoni L について
Technische Universitaet Berlin, Institute of Solid State Physics, Hardenbergstr. 36, EW 6-1, 10623, Berlin, Germany について
Kunkel K について
Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany について
Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany について
Susilo N について
Technische Universitaet Berlin, Institute of Solid State Physics, Hardenbergstr. 36, EW 6-1, 10623, Berlin, Germany について
Wernicke T について
Technische Universitaet Berlin, Institute of Solid State Physics, Hardenbergstr. 36, EW 6-1, 10623, Berlin, Germany について
Einfeldt S について
Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany について
Kneissl M について
Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut fuer Hochstfrequenztechnik, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489, Berlin, Germany について
Kneissl M について
Technische Universitaet Berlin, Institute of Solid State Physics, Hardenbergstr. 36, EW 6-1, 10623, Berlin, Germany について
Semiconductor Science and Technology について
エッチング について
混合気体 について
接触抵抗 について
電流 について
ケイ素 について
ドーピング について
プラズマエッチング について
拡散層 について
窒化アルミニウムガリウム について
UV-LED について
表面損傷 について
動作電圧 について
発光素子 について
段階 について
プラズマ について
エッチングプロセス について
UVC について
LED について
低抵抗 について