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J-GLOBAL ID：202002292111823251   整理番号：20A1069186

その場電気化学めっきにより生成されたニッケル触媒により支援された無アブレシブ化学研磨法【JST・京大機械翻訳】

An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating

著者 (6件)： Toh Daisetsu (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Van Bui Pho (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Isohashi Ai (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Matsuyama Satoshi (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Yamauchi Kazuto (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Sano Yasuhisa (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan)
資料名： Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)
巻： 91  号： 4  ページ： 045108-045108-6  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光および半導体表面の仕上げのために,水および触媒参照エッチング(CARE)と呼ばれるPt触媒を用いた無研磨法を開発した。この方法により,結晶学的擾乱なしに数十ピコメートルの滑らかさをもつ良く秩序化した表面を実現した。本研究では,Ni触媒を用いたin situ電気化学めっきと溶解による新しいCARE法を提案し,Niの触媒能力を向上させた。この方法は,従来のCARE法と比較して,10倍以上の高い除去率と良好な安定性を実現する利点がある。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エッチング ,  *研磨 ,  *ニッケル ,  *無電解めっき ,  *ニッケル触媒 ,  白金触媒 ,  結晶学 ,  *化学研磨 ,  平滑度
準シソーラス用語： 除去率 ,  触媒特性 ,  半導体表面 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 試料技術  (BA02070O)

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学めっき ,  ニッケル触媒 ,  支援 ,  化学研磨