計測装置、露光装置、デバイス製造方法、及びパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-087983
公開番号（公開出願番号）：特開2017-198793
特許番号：特許第6748907号
出願日： 2016年04月26日
公開日（公表日）： 2017年11月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】物体に設けられたマークの2次元平面内の位置計測を行う計測装置であって、前記マークに対向可能な対物光学部材を含む光学系と、前記対物光学部材に対して前記2次元平面内で前記マークが相対移動する際に該マークに前記対物光学部材を介して照明光を照射する照明系と、前記照明光によって前記マークから発生する回折光を互いに異なる混合比率で干渉させる干渉計と、前記干渉計の出力に基づいて、前記マークの位置計測を行うとともに、前記マークの形状の対称性に関する計測値を求める制御系と、を備える計測装置。

IPC (2件)：