リニアモータステージの制御方法及び制御装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：河野英仁 , 河野登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-138961
公開番号（公開出願番号）：特開2020-095680
出願日： 2019年07月29日
公開日（公表日）： 2020年06月18日
要約：

【課題】設計の流れ、制御器の調整が容易であり、制御理論に関する特別な知識を必要とせずに、高精度で高速な位置決めを可能とする、NCTF制御法に基づくリニアモータステージの制御方法及及び制御装置を提供する。【解決手段】定盤に可動なテーブルが設置されているリニアモータステージで位置決めをする際に、リニアモータステージへの入力信号を用いた開ループ実験より得られる規範特性軌跡を用いたNCTF制御により、定盤に起因する振動にテーブルを追従させ、定盤の振動にテーブルを追従させる過程で発生する高周波振動を抑制する。NCTF制御にフィードフォワード制御を加える。定盤に対するテーブルの相対的な運動への、定盤に起因する振動の影響を抑制する制御を対象とする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

定盤に可動なテーブルが設置されているリニアモータステージの位置を制御する方法であって、前記リニアモータステージへの入力信号を用いた開ループ実験より得られる規範特性軌跡に基づく制御を行うNCTF制御を用い、前記定盤の振動に前記テーブルを追従させ、前記定盤の振動に前記テーブルを追従させる過程で発生する高周波振動を抑制することを特徴とするリニアモータステージの制御方法。

IPC (2件)：

G05D 3/12 , H02P 25/064

FI (2件)：

G05D3/12 305Z , H02P25/064

Fターム (21件)：

5H303AA01 , 5H303AA06 , 5H303AA20 , 5H303BB06 , 5H303CC01 , 5H303CC02 , 5H303DD01 , 5H303KK02 , 5H303KK03 , 5H303KK04 , 5H540AA06 , 5H540AA10 , 5H540BA03 , 5H540BB06 , 5H540EE05 , 5H540EE10 , 5H540EE13 , 5H540EE14 , 5H540EE15 , 5H540EE16 , 5H540GG08

引用特許：

審査官引用 (1件)

ステージ制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-239378 出願人：キヤノン株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

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