特許
J-GLOBAL ID：202003004809091561
レーザアニーリング装置、及びそれを利用したディスプレイ装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人PORT
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-045774
公開番号（公開出願番号）：特開2017-079318
特許番号：特許第6727859号
出願日： 2016年03月09日
公開日（公表日）： 2017年04月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 非晶質シリコン層が形成された基板が配置される基板支持部と、
第1方向に延長されたラインレーザビームを、前記基板支持部上に配置された前記基板に照射するレーザビーム照射ユニットと、
前記基板支持部を、前記第1方向と交差する第2方向に移動させる基板移動部と、
相互離隔して位置し、前記基板の移動にしたがって前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する遮蔽領域の面積を増減させることにより、前記基板の前記非晶質シリコン層の外側部分に照射される前記ラインレーザビームの少なくとも一部を遮蔽する第1ビームカッタ及び第2ビームカッタを具備し、
前記第1ビームカッタ及び前記第2ビームカッタは、前記第1方向、または前記第1方向の反対方向への動きによって、前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する前記遮蔽領域の面積を増減させ、
前記基板移動部が、前記基板支持部を前記第2方向に移動させることにより、
前記第1ビームカッタが前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する前記遮蔽領域の面積が小さくなっていき、再び大きくなっていき、
前記第2ビームカッタが前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する前記遮蔽領域の面積が小さくなっていき、再び大きくなっていき、
前記基板移動部が、前記基板支持部を前記第2方向に移動させるにしたがって、
第1区間では、前記第1ビームカッタが前記第1方向へ動くことによって、前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する前記遮蔽領域の面積が小さくなり、前記第2ビームカッタが前記第1方向の反対方向へ動くことによって、前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する前記遮蔽領域の面積も小さくなり、
続いて第2区間では、前記第1ビームカッタが前記第1方向の反対方向へ動くことによって、前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する前記遮蔽領域の面積が大きくなるが、前記第2ビームカッタが前記第1方向の反対方向へ動くことによって、前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する前記遮蔽領域の面積は小さくなり、
続いて第3区間では、前記第1ビームカッタが前記第1方向の反対方向へ動くことによって、前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する前記遮蔽領域の面積が大きくなり、前記第2ビームカッタが前記第1方向へ動くことによって、前記レーザビーム照射ユニットから照射される前記ラインレーザビームを遮蔽する前記遮蔽領域の面積も大きくなることを特徴とする、
レーザアニーリング装置。
IPC (5件)：
H01L 21/268 ( 200 6.01)
, H01L 21/20 ( 200 6.01)
, G09F 9/00 ( 200 6.01)
, G02F 1/13 ( 200 6.01)
, G02F 1/1368 ( 200 6.01)
H01L 21/268 J
, H01L 21/20
, G09F 9/00 338
, G02F 1/13 101
, G02F 1/136
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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