特許
J-GLOBAL ID：202003005195741684

決定方法、露光方法、露光装置、および物品製造方法

発明者：
本間 英晃

本間 英晃 について

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張 劬

張 劬 について

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木島 渉

木島 渉 について

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根谷 尚稔

根谷 尚稔 について

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滝口 篤史

滝口 篤史 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  大塚 康弘 ,  高柳 司郎 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-236721
公開番号（公開出願番号）：特開2020-098285
出願日： 2018年12月18日
公開日（公表日）： 2020年06月25日
要約：
【課題】上下レイヤーの重ね合わせ精度および隣接ショットのつなぎ精度の両立に有利な、2つのショット領域の位置合わせに関する補正量を決定する方法を提供する。【解決手段】上下レイヤーの重ね合わせを行うための重ね合わせマーク間の位置ずれ量である第1位置ずれ量を求め、第1ショット領域と第2ショット領域との位置合わせを行うためのつなぎ位置計測マーク間の位置ずれ量である第2位置ずれ量を求め(S102)、前記第1位置ずれ量に前記第2位置ずれ量の所定の割合を加算して得られる位置ずれ量を前記第1ショット領域と前記第2ショット領域とが重複するつなぎ領域における前記第1の像の補正量として決定し、前記第1位置ずれ量から前記第2位置ずれ量の前記所定の割合に対する残りの割合を減算して得られる位置ずれ量を前記つなぎ領域における前記第2の像の補正量として決定する(S103)。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板の第1ショット領域を露光して第1の像を形成し、前記第1ショット領域の一部と重複する第2ショット領域を露光して第2の像を形成し、前記第1の像と前記第2の像とをつなぎ合わせた像を得るつなぎ露光のための、前記第1ショット領域および前記第2ショット領域の位置合わせに関する補正量を決定する決定方法であって、 上下レイヤーの重ね合わせを行うための重ね合わせマーク間の位置ずれ量である第1位置ずれ量を求め、 前記第1ショット領域と前記第2ショット領域との位置合わせを行うためのつなぎ位置計測マーク間の位置ずれ量である第2位置ずれ量を求め、 前記第1位置ずれ量に前記第2位置ずれ量の所定の割合を加算して得られる位置ずれ量を、前記第1ショット領域と前記第2ショット領域とが重複するつなぎ領域における前記第1の像の補正量として決定し、 前記第1位置ずれ量から前記第2位置ずれ量の前記所定の割合に対する残りの割合を減算して得られる位置ずれ量を、前記つなぎ領域における前記第2の像の補正量として決定する ことを特徴とする決定方法。
IPC (1件)：
G03F 9/00
FI (1件)：
G03F9/00 A
Fターム (29件)：
2H197AA09 ,  2H197AA10 ,  2H197AB02 ,  2H197BA02 ,  2H197BA04 ,  2H197BA09 ,  2H197CC16 ,  2H197CD12 ,  2H197CD15 ,  2H197CD17 ,  2H197CD45 ,  2H197CD48 ,  2H197DB06 ,  2H197DB10 ,  2H197EA02 ,  2H197EA17 ,  2H197EA25 ,  2H197EB03 ,  2H197EB07 ,  2H197EB10 ,  2H197EB16 ,  2H197EB17 ,  2H197EB18 ,  2H197EB19 ,  2H197EB21 ,  2H197EB23 ,  2H197HA03 ,  2H197HA04 ,  2H197JA23
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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