特許
J-GLOBAL ID：202003007921386034
原子層成長装置および原子層成長方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人筒井国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-168993
公開番号（公開出願番号）：特開2018-035396
特許番号：特許第6723116号
出願日： 2016年08月31日
公開日（公表日）： 2018年03月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に成膜処理が行われる成膜容器と、
前記成膜容器内に設置され、前記基板を保持する上下移動可能なステージと、
前記ステージの上昇を止め、前記ステージとの接触により、前記成膜処理が行われる成膜空間と、前記基板の搬送が行われる搬送空間と、を区画するステージストッパーと、
前記ステージの周縁部を覆う第1のステージ防着材と、
前記ステージストッパー上に設置されたステージストッパー防着材と、
を有し、
前記ステージストッパー防着材は、前記ステージストッパーの基板側の側面を覆うとともに前記第1のステージ防着材に向かって延びる部分を備えている、原子層成長装置。
IPC (7件)：
C23C 16/44 ( 200 6.01)
, H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H01L 21/316 ( 200 6.01)
, H01L 21/683 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/04 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
C23C 16/44 J
, H01L 21/31 C
, H01L 21/316 X
, H01L 21/68 N
, H05B 33/14 A
, H05B 33/04
, H05B 33/10
