エッチング装置、基板処理装置、エッチング方法および基板処理方法

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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：福島祥人 , 中川雅博 , 澤村英幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-180856
公開番号（公開出願番号）：特開2018-046206
特許番号：特許第6773495号
出願日： 2016年09月15日
公開日（公表日）： 2018年03月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上に形成された誘導自己組織化材料からなる処理膜に有機溶剤によるエッチング処理を行うエッチング装置であって、純水のみを前記処理膜に供給する純水供給部と、前記純水供給部により前記処理膜に純水が供給された後、純水が前記処理膜上に残留する状態で前記処理膜に前記有機溶剤を供給する有機溶剤供給部と、前記有機溶剤供給部による有機溶剤の供給後、有機溶剤が前記処理膜上に残留する状態で前記処理膜にリンス液として純水を供給するリンス液供給部とを備える、エッチング装置。

IPC (2件)：