特許
J-GLOBAL ID:202003015799906997

膜パターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-207543
公開番号(公開出願番号):特開2020-069459
出願日: 2018年11月02日
公開日(公表日): 2020年05月07日
要約:
【課題】膜パターンの膜厚が薄い場合であっても、膜パターンの縁端部を精度よく形成することができる膜パターン形成方法を提供する。【解決手段】基材上の膜形成領域にインクジェット法により液滴を行って膜パターンを形成する膜パターン形成方法であって、膜形成領域の塗布開始端部の位置情報に基づいて当該塗布開始端部に液滴を吐出する塗布開始工程と、基材とステージとを相対的に搬送させる搬送装置の駆動パルス信号に応じて液滴を吐出する本塗布工程と、が行われ、本塗布工程は、形成する膜パターンの膜厚に応じて、駆動パルス信号毎に液滴の吐出の要否が設定されることにより、駆動パルス信号の周期に対して間欠的に一定周期で液滴が吐出される間欠周期塗布工程と、膜形成領域の塗布終了端部の位置情報に基づいて、間欠周期塗布工程の吐出周期にかかわらず、塗布終了端部に液滴を吐出する塗布終了工程とを有するように構成する。【選択図】図7
請求項(抜粋):
基材上の膜形成領域にインクジェット法により液滴を行って膜パターンを形成する膜パターン形成方法であって、 前記膜形成領域の塗布開始端部の位置情報に基づいて当該塗布開始端部に液滴を吐出する塗布開始工程と、 基材とこの基材を載置するステージとを相対的に搬送させる搬送装置の駆動パルス信号に応じて液滴を吐出する本塗布工程と、 がこの順で行われ、 前記本塗布工程は、形成する膜パターンの膜厚に応じて、前記駆動パルス信号毎に液滴の吐出の要否が設定されることにより、前記駆動パルス信号の周期に対して間欠的に一定周期で液滴が吐出される間欠周期塗布工程と、 前記膜形成領域の塗布終了端部の位置情報に基づいて、前記間欠周期塗布工程の吐出周期にかかわらず、前記塗布終了端部に液滴を吐出する塗布終了工程とを有していることを特徴とする膜パターン形成方法。
IPC (2件):
B05D 1/26 ,  B05D 3/00
FI (2件):
B05D1/26 Z ,  B05D3/00 D
Fターム (11件):
4D075AC06 ,  4D075AC09 ,  4D075AC88 ,  4D075AC91 ,  4D075AC92 ,  4D075AC93 ,  4D075CA47 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DC19 ,  4D075EA05
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 液滴吐出装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2006-080767   出願人:リコープリンティングシステムズ株式会社
  • 液滴吐出装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-040910   出願人:リコープリンティングシステムズ株式会社
  • インクジェット塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-003489   出願人:日立プリンティングソリューションズ株式会社

前のページに戻る