特許
J-GLOBAL ID:202003019864464382

水素透過装置及び水素透過装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森下 賢樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-041118
公開番号(公開出願番号):特開2020-142197
出願日: 2019年03月07日
公開日(公表日): 2020年09月10日
要約:
【課題】水素透過装置の性能向上させる。【解決手段】水素透過装置は、純金属又は合金により形成された水素透過膜50と、水素透過膜50の表面に設けられた触媒層と、を備える。触媒層との境界面における水素透過膜50の金属又は合金の所定比率以上が特定の結晶方位に配向している。【選択図】図1
請求項(抜粋):
純金属又は合金により形成された水素透過膜と、 前記水素透過膜の表面に設けられた触媒層と、 を備え、 前記触媒層との境界面における前記水素透過膜の金属又は合金の所定比率以上が特定の結晶方位に配向した水素透過装置。
IPC (4件):
B01D 53/22 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/02
FI (4件):
B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/02 500
Fターム (16件):
4D006GA41 ,  4D006HA41 ,  4D006JA15A ,  4D006JA18A ,  4D006MA03 ,  4D006MA10 ,  4D006MB04 ,  4D006MB18 ,  4D006MC02X ,  4D006MC83 ,  4D006NA47 ,  4D006NA49 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)
  • 15H04148 高圧アロトロピー組織制御による水素分離膜の創製と低温作動シナジー合金膜への応用

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