特許
J-GLOBAL ID:202003020161931491
薬液の脱気方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (2件):
宮崎 昭夫
, 緒方 雅昭
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-080107
公開番号(公開出願番号):特開2017-189739
特許番号:特許第6770823号
出願日: 2016年04月13日
公開日(公表日): 2017年10月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 水に薬剤を溶解させた薬液を脱気する脱気方法であって、
脱気膜の液体側に前記薬液を通液しつつ前記脱気膜の気体側を減圧し、
前記気体側の減圧に、水を作動流体とする真空エジェクタによって発生する減圧状態を使用し、
前記作動流体として使用される水は、前記薬液よりも低濃度で前記薬剤を含有する、脱気方法。
IPC (3件):
B01D 19/00 ( 200 6.01)
, B01D 61/00 ( 200 6.01)
, C02F 1/20 ( 200 6.01)
FI (5件):
B01D 19/00 H
, B01D 19/00 101
, B01D 61/00
, C02F 1/20 B
, C02F 1/20 A
引用特許:
審査官引用 (5件)
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脱気装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-200806
出願人:三菱レイヨン株式会社
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電子材料用ウェット洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-341430
出願人:栗田工業株式会社
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隔膜式脱気装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-098504
出願人:大日本インキ化学工業株式会社
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薬液供給装置及び薬液の脱気方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-252260
出願人:大日本インキ化学工業株式会社
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純水製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-057510
出願人:三浦工業株式会社
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