特許

J-GLOBAL ID：200903072166939212

電子材料用ウェット洗浄装置

発明者： 森田 博志 ,  井田 純一
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-341430
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176794
出願日： 1997年12月11日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板などの電子材料の表面を清浄化するための電子材料用ウェット洗浄工程において、洗浄槽における気泡の発生を皆無にすることができる電子材料用ウェット洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄槽と、洗浄槽より洗浄液を引き抜いて再度洗浄槽に返送する洗浄液循環ラインとを有する電子材料用ウェット洗浄装置において、洗浄液循環ラインに脱気装置が設けられてなることを特徴とする電子材料用ウェット洗浄装置。

請求項（抜粋）：

洗浄槽と、洗浄槽より洗浄液を引き抜いて再度洗浄槽に返送する洗浄液循環ラインとを有する電子材料用ウェット洗浄装置において、洗浄液循環ラインに脱気装置が設けられてなることを特徴とする電子材料用ウェット洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 648 ,  B01D 19/00 ,  B08B 3/04

FI (3件)：

H01L 21/304 648 F ,  B01D 19/00 H ,  B08B 3/04 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-303536   出願人：松下電器産業株式会社
• 液処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-143679   出願人：ソニツク・フエロー株式会社
• 超音波洗浄システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-223072   出願人：株式会社芝浦製作所
• 洗浄槽
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-210478   出願人：株式会社カイジョー