NDフィルタの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：石田喜樹 , 園田清隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-167068
公開番号（公開出願番号）：特開2018-036325
特許番号：特許第6944623号
出願日： 2016年08月29日
公開日（公表日）： 2018年03月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板に対し、Niを、一定の電圧によってイオン化した一定流量の酸素ガス及び所定流量の希ガスの混合ガスを基板に照射しながら蒸着することで、光吸収層を形成するNDフィルタの製造方法であって、前記光吸収層を形成する前に、前記一定流量、前記所定流量、及び前記一定流量の前記所定流量に対する比の少なくとも何れかを制御することにより、400nm以上700nm以下の波長域において、透過率が単調増加するものとするか、単調減少するものとするか、あるいは平坦なものとするかを制御することを特徴とするNDフィルタの製造方法。

IPC (2件)：