特許
J-GLOBAL ID：202103003730225458
半導体ウエハ検査のためのイメージング性能を最適化する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-511006
特許番号：特許第6830478号
出願日： 2016年08月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 対象物へ検査光を送達するように構成された光学構成要素と、
前記光学構成要素の収差が選択された収差レベルより大きいときに前記光学構成要素を調整する1つ以上のレンズ偏心マニピュレータであり、前記1つ以上のレンズ偏心マニピュレータの調整は、前記光学構成要素を通過して向かう前記検査光の焦点面を自動焦点光の焦点面と重なり合うようにシフトさせる、レンズ偏心マニピュレータと、
前記対象物へ送達された前記検査光に少なくとも一部基づいて前記対象物の画像を得るように構成された検出器と、
前記光学構成要素および前記検出器と通信するプロセッサであって、
前記光学構成要素の収差が選択された収差レベルを超えるときの閾時間を決定するモデルを生成し、前記閾時間は前記1つ以上のレンズ偏心マニピュレータの1つ以上の制御パラメータの測定が生じた後の経過時間であり、
前記閾時間での前記対象物の検査の前に前記光学構成要素の収差が選択された収差レベル内に低減されるように、前記1つ以上のレンズ偏心マニピュレータの調整を介して前記光学構成要素を調整し、
前記閾時間での前記対象物の検査の間に、
前記光学構成要素の収差が選択された収差レベル内であるかを決定するために前記1つ以上の制御パラメータを測定し、前記1つ以上の制御パラメータは、時間、パワー、温度、又は圧力の少なくとも1つに基づいており、
前記光学構成要素の収差が選択された収差レベルを超えていることを決定した上で、選択された収差レベルを超えている光学構成要素の収差を補償するために前記1つ以上のレンズ偏心マニピュレータの調整を介して前記光学構成要素を調整する、
ように構成されたプロセッサと、
を備えることを特徴とする検査システム。
IPC (2件)：
H01L 21/66 ( 200 6.01)
, G01N 21/956 ( 200 6.01)
H01L 21/66 J
, G01N 21/956 A
