特許
J-GLOBAL ID：200903053729045766

欠陥検査装置

発明者：
近松 秀一

近松 秀一 について

, 
野口 稔

野口 稔 について

, 
愛甲 健二

愛甲 健二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-068479
公開番号（公開出願番号）：特開2007-248086
出願日： 2006年03月14日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】欠陥検査装置では検出倍率を上げて微細欠陥検出感度を向上させるため、焦点深度が浅くなり、環境変動によって結像位置がずれ、欠陥検出感度が不安定になる課題がある。【解決手段】被検査基板を搭載して所定方向に走査するXYステージと、被検査基板上の欠陥を斜めから照明し、その欠陥を上方に配した検出光学系で検出する方式で、この結像状態を最良の状態に保つために、温度及び気圧の変化に対して、結像位置変化を補正する機構を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被検査基板を搭載して所定方向に走査するXYステージと、被検査基板上の欠陥を斜めから照明し、その欠陥を上方に配した検出光学系で検出する方式で、この結像状態を最良の状態に保つために、温度及び気圧の変化に対して、結像位置変化を補正する機構を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G02B 21/00 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N21/956 ,  G02B21/00 ,  H01L21/66 J
Fターム (26件)：
2G051AA51 ,  2G051AA65 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CD10 ,  2H052AA07 ,  2H052AB05 ,  2H052AC04 ,  2H052AC09 ,  2H052AC15 ,  2H052AC27 ,  2H052AC34 ,  2H052AD09 ,  2H052AD31 ,  2H052AF02 ,  2H052AF14 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ21
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (14件)
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